| 類型 | 干涉顯微鏡 | 品牌 | CEWEI |
| 型號 | 6JA | 儀器放大倍數 | 500X |
| 目鏡放大倍數 | 12.5X | 物鏡放大倍數 | 40X |
| 適用范圍 | 測量精密加工件表面（平面、圓柱等外表面）光潔度的儀器。也可以用來測量件表面刻線、刻槽鍍層（透明） |
一、用途：
6JA干涉顯微鏡是用來測量精密加工件表面（平面、圓柱等外表面）光潔度的儀器。也可以用來測量件表面刻線、刻槽鍍層（透明）等深度。儀器配以各種附件，還能測量粒狀，加工紋路混亂的表面，低反射率的工件表面。同時還能將儀器安置在工件上，對大型工件表面進行測量。儀器測量表面不平深度范圍為1-0.03微米，用測微目鏡和照明方法來評定▽10-▽14光潔度的表面。本儀器適用于廠礦企業(yè)計量室，精密加工車間，也適用于高等院校，科學研究單位。
二、主要技術參數：
• 目鏡：測微目鏡12.5X，測微鼓輪分劃值0.01mm
• 儀器放大倍數：500X
• 儀器視場：ф0.25 mm
• 物鏡：40X，數值孔徑0.65mm，工作距離0.5mm
• 標準鏡：高反射率≈50%，低反射率≈4%
• 工作臺：升降范圍5mm，XY方向移動范圍≈10mm，
360度旋轉
• 綠色干涉濾：波長λ≈5300A，半寬度▽≈100A
• 測量表面光潔度范圍：▽10-▽14
（相當于測量表面不 平深度范圍為0.1um-0.03um）
• 光源：電珠燈泡6V15W，亮度可調
