用途
CWP-2A型雙盤(pán)金相磨拋機(jī)適用于巖相標(biāo)本、金相試樣的磨拋工序。
巖相：無(wú)論巖石、礦物、陶瓷、玻璃及其他硅酸鹽材料使用本機(jī)磨拋?zhàn)龀龈哔|(zhì)量的標(biāo)本。 機(jī)器帶有電機(jī)自帶保護(hù)裝置。部件采用國(guó)外新型的單片微機(jī)，它具有干擾能力強(qiáng)、工作穩(wěn)定、高、保護(hù)參數(shù)設(shè)定簡(jiǎn)單方便和數(shù)字化、智能化、網(wǎng)絡(luò)化等特點(diǎn)?？捎糜谶^(guò)載、輕載、缺相、過(guò)壓、欠壓、堵轉(zhuǎn)短路、漏電、及三相電路不平衡保護(hù)和多方啟停控制

金相：對(duì)有色金屬和黑色金屬的試樣粗磨、細(xì)磨、干磨、濕磨、拋光都為適用。
技術(shù)參數(shù)
1、機(jī)器帶有電機(jī)自帶保護(hù)裝置。 磨盤(pán)直徑

2、Diameter of grinding disk ￠230mm
3、磨盤(pán)轉(zhuǎn)速 2、Revolving speed of disk 200-1400r/min
4、電動(dòng)機(jī)功率 3、Diameter of sand paper 0.35KW
5、電源電壓 4、MotorO220V, 50HZ
6、外形尺寸 5、Overall dimensions 可定制
7、重 量 6、Net weight
結(jié)構(gòu)特征概述
MP-2雙盤(pán)立式金相磨拋機(jī)是我廠新研制的產(chǎn)品，本機(jī)型采用全不銹鋼外殼，外形新穎美觀，是金相實(shí)驗(yàn)室理想的設(shè)備。它利用各種不同粒度的耐水研磨金相砂紙及拋光材料，對(duì)各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進(jìn)行研磨和拋光。本機(jī)通過(guò)調(diào)速按鈕，可獲得由200-1500轉(zhuǎn)/分各檔速度，用戶可根據(jù)需要選用不同速度，是研磨、拋光廉用型。該機(jī)的磨盤(pán)直徑和功率較大，適用于很多材料的試樣制備，具有傳動(dòng)平穩(wěn)、噪音小、操作、維修方便等優(yōu)點(diǎn)?？蓛扇送瑫r(shí)操作，加快制樣速度。并配有清洗水斗，方便制樣時(shí)清洗。且性價(jià)比國(guó)外同類產(chǎn)品。