1.溶劑凈化系統(tǒng)原理介紹
利用惰性氣體將儲(chǔ)液器溶中的溶劑壓入凈化柱中，溶劑中的O2等雜質(zhì)與除氧器中的低價(jià)氧化物作用，生成高價(jià)金屬氧化物，以實(shí)現(xiàn)深度脫氧：
2xM+yO2→2MxOy(室溫)
脫氧后的氣體進(jìn)人吸附器中，H2O等強(qiáng)吸附質(zhì)被吸附劑吸附后，即得到高純?nèi)軇?，可直接取用?br />除氧器、吸附器經(jīng)較長(zhǎng)時(shí)間的工作，脫氧和吸附能力會(huì)逐漸下降，當(dāng)除氧器或除水器快要飽和失效時(shí)，就應(yīng)停止使用，并對(duì)失效的塔進(jìn)行再生，再生后的凈化柱又可繼續(xù)使用。
2. 系統(tǒng)可提純的溶劑種類
本系統(tǒng)可以提純的溶劑有: 苯、正己烷、甲苯、四氫呋喃、戊烷、乙醚、 二氯甲烷、乙腈、氯甲烷、甲醇、吡啶、重水、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、氯仿、氯苯等。
3. 技術(shù)參數(shù)
原料溶劑要求
O2含量 ： ≤1000ppm
H2O含量：≤1000ppm
如果原料溶劑超過(guò)以上指標(biāo)則單次凈化溶劑的量將相應(yīng)減少。
出口溶劑技術(shù)指標(biāo)
O2含量 ： ≤1ppm
H2O含量： ≤2ppm
設(shè)備技術(shù)參數(shù)
額定處理量：
溶劑流速 ： ≤
溶劑種類 ： 可以同時(shí)處理5種溶劑
再生性能 ： 設(shè)備可反復(fù)再生長(zhǎng)期使用
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