【高恒溫水槽.油槽的參數(shù)說明】
型號溫度范圍（℃）溫度波
動度
（℃）數(shù)顯分辨率（℃）工作槽容積（mm3）槽深度（m）循環(huán)泵流量
（L/min）工作槽開口（mm2）
SL-GDH-0506-5~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-1006-10~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-2006-20~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-3006-30~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-4006-40~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-0510-5~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-2010-20~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-3010-30~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH-1015-5~100±0.005~±0.010.001280×250××160
SL-GDH-2015-20~100±0.005~±0.010.001300×250××160
SL-GDH-3015-30~100±0.005~±0.010.001300×250××160
SL-GDH-1020-5~100±0.005~±0.010.001280×250××160
SL-GDH-0530-5~100±0.005~±0.010.001400×325××280
SL-GDH-1030-10~100±0.005~±0.010.001400×325××280
SL-GDH-2030-20~100±0.005~±0.010.001400×325××280
SL-GDH-3030-30~100±0.005~±0.010.001400×325××280
SL-GDH-3005A-30~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH2008W-20~100±0.005~±0.010.001280×250××160
SL-GDH1015W-10~100±0.005~±0.010.001280×250××160
SL-GDH3506W-35~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH3510W-35~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH0506W-6~100±0.005~±0.010.001250×200××150
SL-GDH4006W-40~100±0.005~±0.010.001250×200××150

 
高低溫恒溫槽，又稱高低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進(jìn)行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。內(nèi)循環(huán)：通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進(jìn)水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場。循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域：
 
生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。
產(chǎn)品特點：
節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。
效率更高——一臺循環(huán)水設(shè)備可同時滿足多臺外部設(shè)備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫——PID控溫技術(shù)，內(nèi)置PT100傳感器、控溫高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護(hù)等多種安全保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關(guān)：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應(yīng)器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設(shè)備，激光打標(biāo)機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設(shè)備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備。
 
應(yīng)用范圍：
對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質(zhì)的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。  我公司生產(chǎn)恒溫槽、冷卻水循環(huán)機、超聲波細(xì)胞破碎儀、實驗室膜分離系統(tǒng)、制冰機、冷凍干燥機、超聲波提取機、真空乳化機、 微波超聲波聯(lián)合反應(yīng)系統(tǒng)等。 如有需要，請聯(lián)系我。