- 重量:(kg)
- 外形尺寸:**(mm)
- 加熱功率:≤(W)或≥(W)
- 有效拉伸距離:(mm)
- 有效試驗寬度:(mm)
- 形變測量范圍:——(KN)
- 材質(zhì):
- 產(chǎn)品用途:
- 等級:
- 產(chǎn)品規(guī)格:——(N)
- 測力范圍:——(N)
- 負荷:(KN)
原裝進口MYCRO半自動光刻機,包含NXQ8008,?NXQ8006,?NXQ8006?Sapphire,NXQ4004,NXQ4006,NXQ4008,Refurbished?Mask?Aligners七個型號,是的光刻系統(tǒng),該系列半自動光刻機廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和微電子行業(yè)領(lǐng)域;NXQ光刻機主要是以全自動和半自動系統(tǒng)為主。以下是關(guān)于NXQ4000系列光刻機的介紹:
應(yīng)用領(lǐng)域:
◆?LED?? ◆?MEMS?? ?◆?IC??? ◆?Mircro-optics
主要特點:
◆?支持2~6寸晶圓,支持碎片對準;
◆真空/壓力接觸曝光模式;
◆簡單快速的手動晶圓裝載方式;
◆紅外背面對準模塊;
◆分離式顯微鏡對準系統(tǒng)或CCD系統(tǒng);
◆高倍率顯微鏡光學(xué)系統(tǒng);
◆手動搖桿控制式對準平臺系統(tǒng);
◆增強型紫外光聚焦透鏡系統(tǒng);
◆支持大間隙對準;
◆支持NUV~DUV;
◆高靈敏度光強可控電源。
需要更詳細的NXQ4000系列半自動光刻機產(chǎn)品資料,
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