高光譜橢偏儀!榮獲 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!
可以測量折射指數(shù)、消光系數(shù)(n & K),膜厚等,廣泛適用于半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、金屬等材料,單層薄膜和多層膜??蛻舭║S Army Research Lab,NASA,NIST,UC Berkeley,MIT,Harvard,Honeywell和Sharp Microelectronics等;
根據(jù)客戶需求,可提供不同型號:
變角度單波長橢偏儀(632.8nm);
變角度多波長橢偏儀(532, 632.8, 1064nm, …);
變角度光譜橢偏儀(深紫外、紫外-可見-近紅外光譜190-2300nm);
全自動變角度光譜橢偏儀(深紫外、紫外-可見-近紅外光譜190-2300nm);
紅外光譜橢偏儀等;
技術(shù)參數(shù):
膜厚范圍:0-30000nm
折射指數(shù):± 0.0001
厚度準(zhǔn)確度:± 0.01nm
入射角度:20 - 90°
波長范圍:250-1100nm(深紫外、近紅外、紅外可選)
Psi=±0.01°,Delta=±0.02°
主要特點:
光譜范圍:UV/VIS range 250 - 1100 nm,可選擴展光譜范圍NIR (700 - 1700 nm) or (700 - 2100 nm)、UV-VIS 范圍(190 - 1100 nm) ;
自動旋轉(zhuǎn)起偏器可測量任意偏振狀態(tài);
步進(jìn)掃描分析儀可高速采集低噪音信號;
可變角度范圍:from 10-90°,可升級為自動變角度10-90°控制 ;
單層薄膜/多層薄膜快速薄膜厚度、折射率測量;
測試軟件可大范圍Psi和Delta數(shù)據(jù)自動測量,并對測試數(shù)據(jù)進(jìn)行采集和分析,內(nèi)置幾百種材料數(shù)據(jù)庫;
可擴展二維自動掃描平臺,實現(xiàn)(50X50mm, 100X100mm, 150X150mm or 200X200mm)Mapping測量功能以及3D分析;
榮獲 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!







