高光譜橢偏儀！榮獲 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!
可以測量折射指數(shù)、消光系數(shù)（n & K)，膜厚等，廣泛適用于半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、金屬等材料，單層薄膜和多層膜?？蛻舭║S Army Research Lab，NASA，NIST，UC Berkeley，MIT，Harvard，Honeywell和Sharp Microelectronics等；
根據(jù)客戶需求，可提供不同型號：
變角度單波長橢偏儀（632.8nm）；
變角度多波長橢偏儀（532, 632.8, 1064nm, …）；
變角度光譜橢偏儀（深紫外、紫外-可見-近紅外光譜190-2300nm）；
全自動變角度光譜橢偏儀（深紫外、紫外-可見-近紅外光譜190-2300nm）；
紅外光譜橢偏儀等；
技術(shù)參數(shù)：
膜厚范圍：0-30000nm
折射指數(shù)：± 0.0001
厚度準(zhǔn)確度：± 0.01nm
入射角度：20 - 90°
波長范圍：250-1100nm（深紫外、近紅外、紅外可選）
Psi=±0.01°，Delta=±0.02°
主要特點：
光譜范圍：UV/VIS range 250 - 1100 nm，可選擴展光譜范圍NIR (700 - 1700 nm) or (700 - 2100 nm)、UV-VIS 范圍(190 - 1100 nm) ；
自動旋轉(zhuǎn)起偏器可測量任意偏振狀態(tài)；
步進(jìn)掃描分析儀可高速采集低噪音信號；
可變角度范圍：from 10-90°，可升級為自動變角度10-90°控制 ；
單層薄膜/多層薄膜快速薄膜厚度、折射率測量；
測試軟件可大范圍Psi和Delta數(shù)據(jù)自動測量，并對測試數(shù)據(jù)進(jìn)行采集和分析，內(nèi)置幾百種材料數(shù)據(jù)庫；
可擴展二維自動掃描平臺，實現(xiàn)(50X50mm, 100X100mm, 150X150mm or 200X200mm)Mapping測量功能以及3D分析；
榮獲 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!