哈爾濱特博科技有限公司
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李洪巖先生(聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說(shuō)明是在維庫(kù)儀器儀表網(wǎng)看到的，謝謝)
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經(jīng)營(yíng)模式：貿(mào)易商
所在地：黑龍江 哈爾濱市
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主要特點(diǎn)： |
1. 單個(gè)基片、碎片或帶承片盤(pán)的基片(3”-12”尺寸) |
2. 適用于實(shí)驗(yàn)室和試制線(xiàn)生產(chǎn) |
3. 沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和無(wú)定形硅 |
4. 操作簡(jiǎn)單通過(guò)打開(kāi)室蓋，直接將基片裝入工藝室 |
5. 可選配一個(gè)ICP 或三管（Triode）源，三管可獲得更高密度等離子 |
