反滲透 EDI高純水系統(tǒng) 東莞EDI超純水設(shè)備 電子行業(yè)超純水設(shè)備 單晶硅超純水設(shè)備 采用反滲透預(yù)處理 EDI制作超純水,其電導(dǎo)率一般可達(dá)到17MΩ.CM以上,工業(yè)上廣泛應(yīng)用于電廠鍋爐、、醫(yī)藥、電子、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域。 1、反滲透簡介 反滲透設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,純凈水處理設(shè)備 反滲透是滲透的一種反向遷移運(yùn)動，是一種在壓力驅(qū)動下借助于半透膜的選擇截留作用將溶液中的溶質(zhì)（實(shí)際水處理中指水中的雜質(zhì)、有機(jī)物、鹽類鈣、鎂、氯離子等）與溶劑（實(shí)際水處理中指水）分開的分離方法。 脫鹽率：RO（反滲透）系統(tǒng)的脫鹽率一般在97％以上，反滲透膜的脫鹽率可達(dá)99.8％。 通過反滲透膜的處理，水中的無機(jī)鹽類、細(xì)菌、病毒、糖類、氨基酸、COD、BOD等雜質(zhì)被去除，從而達(dá)到純化和濃縮的目的。 2、EDI簡介 　 EDI又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段，有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。我公司引進(jìn)進(jìn)口膜元組裝制造的EDI系統(tǒng)在國內(nèi)多家公司的成功應(yīng)用，為EDI系統(tǒng)的推擴(kuò)打下了基礎(chǔ)。 EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而被淡水中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。 EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)： 　?、偎|(zhì)穩(wěn)定 　?、谌菀讓?shí)現(xiàn)全自動控制 　?、鄄粫蛟偕C(jī) 　?、懿恍杌瘜W(xué)再生 　　⑤運(yùn)行費(fèi)用低 　?、迯S房面積小 　?、邿o污水排放 反滲透設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,純凈水處理設(shè)備 　　EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。 （一）EDI的給水處理 　　給水預(yù)處理對于EDI及其重要，組件的壽命、性能及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量，如果給EDI提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗率將會降低。EDI濃水一部分循環(huán)（當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率時(shí)，可以不循環(huán)），另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可以回收作為他用或直接排至下水道。 反滲透設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,純凈水處理設(shè)備 （二）EDI所用儀表 　　1．壓力表：測定EDI純水、濃水、極水給水壓力和出水壓力。 　　2．流量計(jì)：測量純水出水、濃水入水、極水入水及濃水補(bǔ)水的流量。 　　3．電導(dǎo)率儀：測量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。 　　4．電阻率儀：測量EDI純水電阻率。 　　5．流量開關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、極水流量過低，流量開關(guān)會促使系統(tǒng)關(guān)閉。 3、純水的保存和給水 經(jīng)過EDI處理后的水即可為成品水，進(jìn)入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法，即從純水箱頂部充入氮?dú)?。給水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于水位時(shí)，PLC啟動制水程序，整個(gè)系統(tǒng)開始制水，直到純水箱水位達(dá)到水位，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，始終保持純水箱里有一定的水位。