- 產(chǎn)品品牌:
- NANOVEA
- 產(chǎn)品型號(hào):
- S100
美國(guó)NANOVEA納米劃痕測(cè)試儀 飾 美國(guó)NANOVEA公司是一家公認(rèn)的劃痕測(cè)試儀的革新者,生產(chǎn)的劃痕測(cè)試儀是目前國(guó)際上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域先進(jìn)的設(shè)備之一,該公司在光學(xué)設(shè)計(jì)、精密機(jī)械和科學(xué)軟件算法方面,擁有長(zhǎng)期不斷發(fā)展的技術(shù),由于這些專(zhuān)門(mén)技術(shù)的應(yīng)用,NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準(zhǔn)確的全方位解決方案。 納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度與薄膜的抗劃痕強(qiáng)度,主要應(yīng)用在:
- 半導(dǎo)體技術(shù)(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads);
- 存儲(chǔ)材料(磁盤(pán)的保護(hù)層、磁盤(pán)基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層);
- 光學(xué)組件(接觸鏡頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層);
- 金屬蒸鍍層;
- 防磨損涂層(TiN, TiC, DLC, 切割工具);
- 藥理學(xué)(藥片、植入材料、生物組織);
- 工程學(xué)(油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS);
- 多種劃痕針頭
- 微米、顯微模塊
- 硬度測(cè)試模塊
- 摩擦磨損測(cè)試模塊
- 聲發(fā)射模塊
- AFM模塊
- 三維顯微模塊








