- 制作工藝：
- 薄膜
精密鉑電阻-薄膜鉑電阻，用真空沉積的薄膜技術把鉑濺射在陶瓷基片上，膜厚在2μm以內(nèi)，用玻璃燒結料把Ni(或Pd)引線固定，經(jīng)激光調(diào)阻制成薄膜元件。 高：0.15度可以修正到0.1度 測溫范圍：-50~200；-50~400；-50~600范圍寬廣
100 /1000Ω阻值可供選擇 工作穩(wěn)定；尺寸小
薄膜鉑電阻選型表
| 型號 | 外形尺寸 W×L×Hmm | 標稱阻值 R0 | 工作電流 mA | 引線尺寸 W×L×Hmm | 工作溫度 ℃ | 誤差 | 外形圖 mm |
| VEC-1632-Ni | 1.6×3.2×1.0 | 100Ω | 1 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | 1/3DIN A B 2B | |
| VEC-1632-Pd | 0.3×0.2×10 | -50~500 | |||||
| VEC-2005-Ni | 2.0×5.0×1.0 | 2 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | |||
| VEC-2005-Pd | 0.3×0.2×10 | -50~500 | |||||
| VEC-2005-Ni | 500Ω 1000Ω | 0.5 | 0.25×0.15×12 | -40~450 | |||
| VEC-2005-Pd | 0.5 | 0.3×0.2×10 | -50~500 |
