產(chǎn)品介紹：IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）處理系統(tǒng)、感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)

高性能深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統(tǒng)

IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）處理系統(tǒng)是一款配備裝載互鎖裝置的深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統(tǒng)。一款全新定義深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫低損傷  等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理新概念的等離子處理系統(tǒng)。

該深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計制造，采用一款通用的真空處理艙及機(jī)柜。深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統(tǒng)采用感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻或沉底部電極模塊化設(shè)計理念，方便整體系統(tǒng)的組裝及配置；系統(tǒng)集成配備裝載互鎖。

深反應(yīng)離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統(tǒng)主要性能簡介

. 等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求，用戶選購的系統(tǒng)設(shè)備滿足范圍的等離子工藝參數(shù)需要，工藝驗(yàn)證需要極其高的可重復(fù)性，必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)滿足這些非?？量痰囊?。

IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)是一款用于研究，工藝開發(fā)及其小批量生產(chǎn)的等離子系統(tǒng)工具，用于八英寸（200mm）基片的精密等離子刻蝕及沉積。該等離子系統(tǒng)可以容納處理多塊晶圓片。

在設(shè)計IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)之初，主導(dǎo)指示就是創(chuàng)造一款融合高質(zhì)量、可靠、重復(fù)性及其用于生產(chǎn)系統(tǒng)的工藝控制能力為一體的等離子系統(tǒng)；同時極大的降低主機(jī)成本、維護(hù)成本及占地面積小等要求。

IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）處理系統(tǒng)具有獨(dú)特的機(jī)體結(jié)構(gòu)和電極設(shè)計，方便安裝在層流模塊中或是超凈間。該系統(tǒng)的建造采用高質(zhì)量認(rèn)可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體及其電極設(shè)計、結(jié)構(gòu)緊湊、自動化及業(yè)內(nèi)認(rèn)可工藝程序使得IL裝載互鎖式（Load Lock） 感應(yīng)耦合等離子（ICP）處理系統(tǒng)成為工藝工程師干法設(shè)備。

裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)裝載互鎖式模塊

IL裝載互鎖式（Load Lock）感應(yīng)耦合等離子（ICP）處理系統(tǒng)配備一個真空裝載互鎖模塊，該裝載互鎖模塊采用鋁材建造。裝載互鎖式系統(tǒng)處于大氣壓，接近真空工件分級和進(jìn)入模塊。在無需對真空艙室泄壓的情況下，這些模塊化設(shè)計是傳送工件進(jìn)出真空系統(tǒng)的方便且實(shí)用的方式。裝載互鎖式系統(tǒng)極大提高了效率及產(chǎn)量，同事降低了循環(huán)時間，更重要的是極大降低了污染。裝載互鎖式系統(tǒng)在可控的環(huán)境條件下，工件進(jìn)出真空處理艙室變得容易。裝載互鎖式系統(tǒng)可容納4英寸至8英寸直接的晶圓片，且配備一個特制末端執(zhí)行器。在裝載互鎖模塊及處理艙室直接通過一個隔離閥分開傳送的工件。