產(chǎn)品描述：臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)
關(guān)鍵字：臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)，圓筒型腔體臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)

VHF系列圓筒型腔體臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)定義了一個(gè)新的臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)圓筒型等離子處理方式。 該臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)是基于臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)理念，用一個(gè)通用的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)作為基礎(chǔ)反應(yīng)離子刻蝕(RIE)設(shè)備，可與多種結(jié)構(gòu)真空反應(yīng)腔體及射頻電極模塊方便地插入到該圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)設(shè)備。該圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)設(shè)備可處理各種等離子處理工藝、可維護(hù)性高及其具有吸引力的價(jià)格優(yōu)勢(shì)，是任何其他圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)設(shè)備無(wú)法比擬的。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)設(shè)備具有如下特點(diǎn)：

?        可互換圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)真空反應(yīng)腔體和射頻電極模塊化設(shè)計(jì)

?        可選不同材質(zhì)的反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)真空腔體：不銹鋼、鋁、陽(yáng)極化鋁

?        多種射頻電極配置：圓筒籠式（cage）電極、托盤(pán)式（tray）電極、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)式電極、下游式 （Downstream）電極

?        成熟的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)處理工藝程序

?        可靠的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)部件

?        圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)終點(diǎn)檢測(cè)

?        臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)配套射頻電源匹配器網(wǎng)絡(luò)

?        圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)下游（Downstream）壓力控制

?        圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)采用計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)

?        圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)多真空泵浦選選配     

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)概況

在等離子處理過(guò)程的研究和工藝研究中，用戶強(qiáng)烈需要一款功能高度多樣，同時(shí)也可靠的臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)研發(fā)工具。 在等離子體處理工藝研究的不斷變化的需求中，選擇一款臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)必須能夠處理廣泛的等離子處理工藝參數(shù)，及其可重復(fù)性程度極高的驗(yàn)證等離子處理工藝；并且很容易修改為新的等離子處理工藝要求。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的干法反應(yīng)離子刻蝕(RIE)工藝系統(tǒng)能滿足執(zhí)行這些反應(yīng)離子刻蝕(RIE)任務(wù)的苛刻要求。筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)是一款用于研究、工藝開(kāi)發(fā)或小批量光刻膠去膠和清除浮渣，等離子各向同性刻蝕、等離子有機(jī)物灰化、混合電路等離子清洗、印刷電路去污、失效 分析、塑料的等離子表面處理及改性、聚合物沉積及其它廣泛的等離子應(yīng)用領(lǐng)域。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)提供了一個(gè)獨(dú)特的新型模塊化方法來(lái)實(shí)現(xiàn)圓筒型離子系統(tǒng)。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)具有兩個(gè)不同射頻頻率該的版本，即低版本的30kHz低頻射頻電源和13.56 MHz的高頻射頻電源系統(tǒng)。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)可容納203毫米（8英寸）或更小基片的等離子處理。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)選擇成熟、高質(zhì)量的部件，模塊化的組件，多功能真空艙-電極設(shè)計(jì)，體積小，自動(dòng)化控制和等離子領(lǐng)域驗(yàn)證的工藝程序?qū)⑹?strong>圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)成為一款大多數(shù)等離子工藝工程師的臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)應(yīng)用

多模塊設(shè)計(jì)及可選的真空腔和電極配置的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)能夠滿足廣泛的等離子體處理?xiàng)l件。 這些等離子處理工藝的范圍包括從簡(jiǎn)單的等離子表面清洗、到復(fù)雜的亞微米反應(yīng)離子刻蝕(RIE)刻蝕。成熟的工藝程序、優(yōu)質(zhì)的組件、多模塊系統(tǒng)提供的運(yùn)行時(shí)間保證反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的可靠性，可重復(fù)性和可維護(hù)性。 典型的等離子工藝包括：

?        等離子清除浮渣

?        等離子光刻膠去膠

?        等離子表面處理

?        等離子各向異性和各向同性蝕刻（Anisotropic& Isotropic Etching）

?        故障分析應(yīng)用

?        等離子材料改性

?        等離子鈍化層腐蝕

?        等離子聚酰亞胺蝕刻

?        等離子促進(jìn)粘合

?        生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用

?        等離子聚合反應(yīng)

?        等離子混合清洗

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)規(guī)格

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)其高度的多功能設(shè)計(jì)理念，是其取得巨大成功的重要因素。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的特性包括設(shè)備安裝占地尺寸小、臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)安裝簡(jiǎn)易和滿足各種等離子體處理工藝的真空艙體模塊化設(shè)計(jì)和多種射頻電極配置。 此外射頻電源的工作頻率、工藝控制器、工藝氣體的控制及真空系統(tǒng)均可選配。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的基礎(chǔ)系統(tǒng)平臺(tái)

通用的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的基礎(chǔ)系統(tǒng)平臺(tái)包含所有必要的閥門(mén)、真空管路，射頻電源、射頻電源匹配器、工藝氣體控制和系統(tǒng)邏輯提供一個(gè)完全自動(dòng)化的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的基礎(chǔ)平臺(tái)設(shè)計(jì)可容納各種模塊化的真空腔及射頻電極插入到基礎(chǔ)系統(tǒng)單元之中。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)可以在幾分鐘內(nèi)從一般的圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子清洗系統(tǒng)轉(zhuǎn)換成圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)或圓筒型臺(tái)式平板電極系統(tǒng)。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的模塊化真空艙及射頻電極配置

模塊化的真空艙和射頻電極組件是圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的獨(dú)特的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。 錢(qián)真空艙材質(zhì)可以是鋁、陽(yáng)極氧化鋁和不銹鋼。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的真空艙可以很容易互換從一種轉(zhuǎn)換成另外一種。 真空處理艙的組成包括幾種不同的射頻電極設(shè)計(jì)，其中包括水冷[溫度控制]和用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的平行射頻電極板，交變托盤(pán)式射頻電極用于等離子表面清潔或處理，用于普通的為限度地減少離子損傷的下游電極和圓筒籠式（cage）電極。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的射頻電源
圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)有兩種可選等離子工藝頻率即30 kHz射頻電源和13.56 MHz射頻電源。 每個(gè)射頻頻率具有獨(dú)特的處理特性，允許用戶選擇合適的頻率，從而滿足具體要求。 可用的射頻功率范圍從150瓦到1250瓦。 自動(dòng)或手動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)，在必要時(shí)提供。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的真空系統(tǒng)

根據(jù)所需的真空處理水平要求，圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)提供機(jī)械泵及羅茨鼓風(fēng)機(jī)用機(jī)械真空泵。 這些真空泵可提供在腐蝕性氣體如氧或腐蝕性化學(xué)應(yīng)用。 下游壓力控制和質(zhì)量流量控制也可獨(dú)立控制真空和處理氣體流量。

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)的電腦控制系統(tǒng)

嵌入式計(jì)算機(jī)的鍵盤(pán)和顯示屏提供完整的自動(dòng)化圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)。 無(wú)限等離子工藝存儲(chǔ)設(shè)有多級(jí)的處理步驟。圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)提供了顯示所有的運(yùn)行參數(shù)，用戶可以很容易地編程。 

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)尺寸

反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng) ： 度62厘米  x 深63.5厘米  x 高40厘米

反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)重量： 約45公斤

圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)機(jī)電信息
圓筒型臺(tái)式反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)：        220V AC，50Hz，7A

H20          用于射頻電極冷卻 （因不同射頻電極而異]

空氣         用于電磁閥門(mén)操作

N2   用于等離子真空艙泄壓

氣    工藝氣體

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