- 品牌/商標(biāo)：MYCRO
- 企業(yè)類型：貿(mào)易商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：美國(guó)
| 涂膠顯影機(jī)(英文名：Developing) 型號(hào)：EDC-650Mz-23NPP 產(chǎn)地：美國(guó) 一、產(chǎn)品概述： 650型涂膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般涂膠顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。 二、涂膠顯影機(jī)工作原理： 涂膠顯影機(jī)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮?dú)猓┑群蟮奶幚聿襟E。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過(guò)程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。涂膠顯影機(jī)還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性。 三、涂膠顯影機(jī)主要性能指標(biāo)： 1、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)； 2、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片； 3、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能； 3、轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-12,000rpm， 5、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%； 6、工藝時(shí)間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 ； 7、高數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點(diǎn)小于0.006%； 8、程序控制：可存儲(chǔ)20個(gè)程序段，每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài)； 9、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院（NIST）過(guò)的，并且無(wú)需再校準(zhǔn)！] 10、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作； 11、腔體材質(zhì)說(shuō)明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體； 12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件； 13、配套真空泵系統(tǒng)：無(wú)油型 220~240伏交流，50/60赫茲； 請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中國(guó)營(yíng)銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系! |
