- 品牌/商標(biāo):MYCRO
- 企業(yè)類型:貿(mào)易商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:美國(guó)
產(chǎn)地:德國(guó)
簡(jiǎn)介:
德國(guó)原裝進(jìn)口Q系列微波等離子處理系統(tǒng),用于(高劑量注入后)光刻膠的去除,Alpha微波等離子刻蝕機(jī),用于濕法或干法刻蝕工藝前后,Alpha微波等離子區(qū)膠機(jī)用于SU-8和其它環(huán)氧基光膠的去除,Alpha微波等離子去膠機(jī)用于微電子機(jī)械系統(tǒng)加工中犧牲層去除,Alpha Q150微波等離子去膠機(jī)用于去除化學(xué)殘余物,Alpha微波等離子去膠機(jī)用于清除浮渣工藝。
應(yīng)用領(lǐng)域:
? 半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)中光刻膠或SU-8膠工藝
? 平板顯示生產(chǎn)中等離子體預(yù)處理
? 太陽能電池生產(chǎn)中邊緣絕緣和制絨
? 先進(jìn)晶片(芯片)裝配中的襯底清潔和預(yù)處理
優(yōu)勢(shì):
? 預(yù)處理可避免光刻膠在高劑量離子注入后破裂
? 硬膠的輕柔去除
? 溫度為230攝氏度
? Slow temperature ramp – up溫升慢
? 高密度激發(fā)態(tài)原子團(tuán)
? 工藝時(shí)間短
? 的自偏壓,低損傷
| Q150 | Q235 | Q240 | |
| 樣片尺寸 | 5" | 6" | 4", 5", 6", 8" |
| 腔室尺寸(mm) | φ150 x 260depth | φ235 x 260depth | φ240x 460depth |
| 處理能力 | 25x 5" | 25x 6" | 50x 6", 8" |
| 工藝壓力(Pascal) | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 頻率(GHz) | 2.45 | 2.45 | 2.45 |
| 功率(W) | 100-600 | 100-600 | 100-1200 |
| 控制方式 | 全自動(dòng)運(yùn)行 | 全自動(dòng)運(yùn)行 | 全自動(dòng)運(yùn)行 |
| 外形尺寸 (WxHxD, mm) | 500x370x550 | 590x460x550 | 760x775x775 |
| 主機(jī)重量(kg) | 40 | 70 | 120 |
| 泵重量(kg) | 32 | 32 | 83 |
| 總重量(kg) | 72 | 102 | 203 |
| 總功率 (kW) | 2.2 | 2.6 | 4.2 |
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