- 品牌/商標(biāo)：MYCRO
- 企業(yè)類型：貿(mào)易商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：美國
型號：SWC-3000
產(chǎn)地：美國
MYCRO提供美國原裝進(jìn)口的單晶圓片和掩膜的清洗設(shè)備，均勻度高和國際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對襯底表面進(jìn)行無損壞的清洗。表面顆粒的去除可以調(diào)整化學(xué)試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒?；瘜W(xué)配比系統(tǒng)設(shè)計了小的化學(xué)試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學(xué)試劑在襯底表面完全均勻的分布。這個設(shè)計也提供了的化學(xué)工藝時間的控制，控制超聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
根據(jù)用戶的應(yīng)用需要，某些特定選項將有助于設(shè)備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。
SWC系列清洗系統(tǒng)
可選型號：
技術(shù)指標(biāo)：
晶園尺寸：12英寸
掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗時間：1分鐘
標(biāo)準(zhǔn)巨聲波頻率：1MHz
射頻電源輸出功率：60W
小DI水流量：1.5L/min
轉(zhuǎn)速：4000RPM
系統(tǒng)控制：PLC程序控制
裝載和卸載：手動
氮?dú)夂娓蓽囟龋?/span>300℃
需要更詳細(xì)的晶圓清洗機(jī)信息
請與邁可諾技術(shù)有限公司中國營銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!
產(chǎn)地：美國
MYCRO提供美國原裝進(jìn)口的單晶圓片和掩膜的清洗設(shè)備，均勻度高和國際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對襯底表面進(jìn)行無損壞的清洗。表面顆粒的去除可以調(diào)整化學(xué)試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒?；瘜W(xué)配比系統(tǒng)設(shè)計了小的化學(xué)試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學(xué)試劑在襯底表面完全均勻的分布。這個設(shè)計也提供了的化學(xué)工藝時間的控制，控制超聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
根據(jù)用戶的應(yīng)用需要，某些特定選項將有助于設(shè)備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。
| 具體應(yīng)用 清洗功能： ? 晶圓片 ? 藍(lán)寶石外延片 ? 晶圓框架上的芯片 ? 顯示面板 ? ITO膜顯示材料 ? 有圖形掩膜和無圖形掩膜 ? 掩膜坯料 ? 薄膜式掩膜 ? 接觸式掩膜 光刻處理工藝： ? SPM剝離 ? 光刻膠涂膜 ? 光刻膠剝離工藝 刻蝕： ? 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦） 白骨化清洗： ? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液 ? 紅外加熱 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 | 產(chǎn)品特點(diǎn)： ? 針對21英寸外徑或15x15英寸的基底 ? 巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮?dú)猓?/span> ? 化學(xué)注射臂 ? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷 ? 觸屏用戶界面 ? 手動上 ? 安全鎖和報警器 ? 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項： ? 化學(xué)試劑傳送單元 ? 白骨化清洗 ? 臭氧發(fā)生器 ? 氫化雙氧水發(fā)生器 ? 高壓雙氧單元 ? 硫酸氫過氧化物 ? 紅外加熱 ? 雙氧水循環(huán)裝置 ? 機(jī)械手上單元 ? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng) |
| 去膠/剝離工藝 ? 帶紅外加熱的NMP滴膠 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 CMP溶液清洗： ? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒 ? 化學(xué)噴射臂 ? 化學(xué)噴射罐 ? 為前面和背面刷洗設(shè)計的特殊托盤 ? 可調(diào)速的PVA清洗刷 ? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力 ? 刷式化學(xué)噴射 帶膜/不帶膜式掩膜清洗： ? 全套清洗（無需更換保護(hù)膜） ? 全保護(hù)膜 ? 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后
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可選型號：
| SWC-3000 | 標(biāo)準(zhǔn)臺式 | 兆聲清洗，N2旋干 | |
| SWC-3000-C | CDU臺式 | 兆聲清洗，N2旋干，帶化學(xué)試劑分配功能 | |
| SWC-3000-M | 掩膜板臺式 | 兆聲清洗（3MHz），N2旋干或者紅外燈烘干 | |
| SWC-4000 | 標(biāo)準(zhǔn)立式 | 兆聲清洗，熱N2旋干化學(xué)配比，酸和溶劑分別獨(dú)立排放 | |
| SWC-4000-M | 獨(dú)立的掩膜板清洗機(jī) | 兆聲清洗，熱N2旋干 化學(xué)配比，酸和溶劑分別獨(dú)立排放 | |
| SWC-4000-MP | 薄膜光刻度板清洗機(jī) | 兆聲清洗，熱N2旋干 化學(xué)配比，酸和溶劑分別獨(dú)立排放 |
技術(shù)指標(biāo)：
晶園尺寸：12英寸
掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗時間：1分鐘
標(biāo)準(zhǔn)巨聲波頻率：1MHz
射頻電源輸出功率：60W
小DI水流量：1.5L/min
轉(zhuǎn)速：4000RPM
系統(tǒng)控制：PLC程序控制
裝載和卸載：手動
氮?dú)夂娓蓽囟龋?/span>300℃
需要更詳細(xì)的晶圓清洗機(jī)信息
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