- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：美國(guó)
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD，成熟的技術(shù)，龐大的裝機(jī)量，是VLSI（標(biāo)準(zhǔn)樣片公司）供應(yīng)商。有單腔手動(dòng)方片。性價(jià)比很高。特別適合高校和研究單位。
PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜和炭納米管（CNT）等。可選用射頻（RF）、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體（ICP）源。該公司采用先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的設(shè)計(jì)為您提供多方位的服務(wù)。
PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜和炭納米管（CNT）等。可選用射頻（RF）、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體（ICP）源。該公司采用先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的設(shè)計(jì)為您提供多方位的服務(wù)。
