北京特博萬德科技有限公司
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主要特點：
1. 可以適用于Si，Ge，GaAs，InP，GaN, InSb，ZnS, GaN, SiC, 金屬等的刻蝕
2. 可用于6”wafers
3. 氦氣背面冷卻
4. 8路氣體，O2, SF6，CH4, H2, Cl2, N2, Ar, CHF3
