珍珠珠層厚度檢測儀
主要技術(shù)參數(shù)：
光源波長：1300 nm
光源功率：5mW
樣品面光功率：1-2mW
縱向分辨率：20um
橫向分辨率：20um
掃描深度：3mm
成像速度：1-2f/s
工作距離：50-70mm
臺近紅外光珍珠珠層成像儀（發(fā)明號：2006100575466）。利用低功率近紅外光對珍珠成像，照射到樣品的光功率1-2mW，波長為1.3微米，無放射性，對檢測工作者和珍珠樣品傷，檢測實(shí)驗(yàn)室無需放射性屏蔽，不會對工作人員產(chǎn)生潛在的X線放射性危害；與傳統(tǒng)的X線前向成像相比，本產(chǎn)品采用了的非接觸式背向散射成像技術(shù)實(shí)現(xiàn)了單珠檢測，使用于半成品、成品珍珠飾的測量成為可能；直觀的珍珠珠層圖像，準(zhǔn)確測量珍珠珠層厚度，分辨率可達(dá)0.03毫米；儀器小型化，安裝、使用方便，可在生產(chǎn)工廠、檢測機(jī)構(gòu)、分銷單位、售單位等場所直接使用；成像檢測速度快，每個樣品用1-2秒，可選配分選器，適用于珍珠養(yǎng)殖、生產(chǎn)過程中的分級、篩選。
主要技術(shù)參數(shù)：
光源波長：1300 nm
光源功率：5mW
樣品面光功率：1-2mW
縱向分辨率：20um
橫向分辨率：20um
掃描深度：3mm
成像速度：1-2f/s
工作距離：50-70mm
臺近紅外光珍珠珠層成像儀（發(fā)明號：2006100575466）。利用低功率近紅外光對珍珠成像，照射到樣品的光功率1-2mW，波長為1.3微米，無放射性，對檢測工作者和珍珠樣品傷，檢測實(shí)驗(yàn)室無需放射性屏蔽，不會對工作人員產(chǎn)生潛在的X線放射性危害；與傳統(tǒng)的X線前向成像相比，本產(chǎn)品采用了的非接觸式背向散射成像技術(shù)實(shí)現(xiàn)了單珠檢測，使用于半成品、成品珍珠飾的測量成為可能；直觀的珍珠珠層圖像，準(zhǔn)確測量珍珠珠層厚度，分辨率可達(dá)0.03毫米；儀器小型化，安裝、使用方便，可在生產(chǎn)工廠、檢測機(jī)構(gòu)、分銷單位、售單位等場所直接使用；成像檢測速度快，每個樣品用1-2秒，可選配分選器，適用于珍珠養(yǎng)殖、生產(chǎn)過程中的分級、篩選。
