實(shí)驗(yàn)內(nèi)容及相關(guān)科目:
觀察激光散斑圖,了解散斑的形成原因和特點(diǎn)。
掌握二次曝光測(cè)量微小位移的方法和原理。
通過(guò)實(shí)際測(cè)量,驗(yàn)證位移量與散斑圖象的關(guān)系公式。
儀器特點(diǎn):
采用半導(dǎo)體激光器作為光源(650nm、4mW)。
自行搭制光路拍散斑圖,并對(duì)散斑圖象進(jìn)行測(cè)量、分析。
設(shè)備成套性:
光學(xué)實(shí)驗(yàn)導(dǎo)軌、半導(dǎo)體激光器、擴(kuò)束鏡、準(zhǔn)直鏡、干板架、一維位移架、激光功率指示計(jì)、毛玻璃等。
技術(shù)指標(biāo)
光學(xué)實(shí)驗(yàn)導(dǎo)軌1000mm.
半導(dǎo)體激光器635nm,3mW.
二維可調(diào)擴(kuò)束鏡25倍,可調(diào)范圍:±2.5mm.
大一維位移架+12檔光探頭:位移范圍100mm,0.02mm,光欄直徑:0.5、1、2、3、4、6mm.光欄寬度:0.2、0.3、0.4、0.8、1.2mm.








