實驗內(nèi)容及相關(guān)科目:
觀察激光散斑圖,了解散斑的形成原因和特點。
掌握二次曝光測量微小位移的方法和原理。
通過實際測量,驗證位移量與散斑圖象的關(guān)系公式。
儀器特點:
采用半導體激光器作為光源(650nm、4mW)。
自行搭制光路拍散斑圖,并對散斑圖象進行測量、分析。
設(shè)備成套性:
光學實驗導軌、半導體激光器、擴束鏡、準直鏡、干板架、一維位移架、激光功率指示計、毛玻璃等。
技術(shù)指標
光學實驗導軌1000mm.
半導體激光器635nm,3mW.
二維可調(diào)擴束鏡25倍,可調(diào)范圍:±2.5mm.
大一維位移架+12檔光探頭:位移范圍100mm,0.02mm,光欄直徑:0.5、1、2、3、4、6mm.光欄寬度:0.2、0.3、0.4、0.8、1.2mm.








