此外，輝光放電選項(xiàng)也是可用的（Q150R S和Q150R 版本），它可實(shí)現(xiàn)樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）。
快速簡便：快速、易更換的鍍膜頭，能在同一個(gè)緊湊設(shè)計(jì)中實(shí)現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。
采用全自動(dòng)觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)并儲(chǔ)存。自動(dòng)放氣控制功能了濺射期間的真空狀態(tài)，可提供良好的一致性和可重復(fù)性。
易使用：智能識(shí)別系統(tǒng)可自動(dòng)探測(cè)安裝了何種類型的鍍膜頭，以便立即運(yùn)行相應(yīng)的鍍膜方案?？纱鎯?chǔ)多個(gè)用戶自定義的鍍膜方案 – 這對(duì)于需更改鍍膜參數(shù)實(shí)現(xiàn)不同應(yīng)用的多用戶實(shí)驗(yàn)室理想。多種樣品臺(tái)組件適用于各種尺寸和類型的樣品；樣品臺(tái)都帶有快速、易更換及落入式設(shè)計(jì)的特點(diǎn)。
大、可重復(fù)鍍膜及高性：可預(yù)編程的鍍膜參數(shù)及方案能一致且可重復(fù)的結(jié)果。需要沉積厚膜時(shí)，本系統(tǒng)提供長達(dá)60分鐘且無需破真空的濺射時(shí)間。設(shè)計(jì)的碳蒸鍍頭操作簡單,具有對(duì)蒸發(fā)電流參數(shù)的控制，了SEM應(yīng)用中一致的和可重復(fù)的碳沉積。可選的膜厚監(jiān)控附件用于可重復(fù)的膜厚控制。
適配且用途廣：濺射、碳蒸鍍、輝光放電頭及多種可選件，使Q150R對(duì)于多用戶實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用理想?？蔀R射一系列不氧化金屬，如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍頭處理樣品速度快。也可選用碳棒蒸發(fā)。

還可用于金屬薄膜研究及電的應(yīng)用。