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干氯中的水分在線監(jiān)測系統(tǒng)
在線測量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
監(jiān)測水分含量，以控制干燥機(jī)工藝含水分的（>12mg/l H2O）對于在干燥機(jī)后面的其他氯處理中使用的很多材料都具有腐蝕性。因此，需要對進(jìn)行干燥，以發(fā)生腐蝕。具有有限干燥能力的工藝干燥機(jī)將執(zhí)行這一干燥過程。為了在發(fā)生飽和時(shí)進(jìn)行再生，需使用多臺干燥機(jī)。濕的干燥過程需要通過在線測量（Cl2）中的水分（H2O）進(jìn)行控制。
典型測量范圍：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中鹽水中的鈣鎂離子在線監(jiān)測系統(tǒng)
對鹽水質(zhì)量進(jìn)行控制以膜的損壞
從水銀電解法改為膜電解法后，鹽水的純度就變得關(guān)鍵。鹽水純化工藝的功能不正常會(huì)造成較高的 Ca＋＋和 Mg＋＋濃度，從而可能損害膜的性能。在膜被鈣鹽和鎂鹽堵塞的情況下，用電成本就會(huì)不可逆轉(zhuǎn)地增加。后，可能需要將膜更換。典型測量范圍：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中鹽水中總氮在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生三氯化氮。通過在上游控制鹽水中的總氮（TN），可以采取要的工藝措施來在液化過程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新開發(fā)的 TONI®Special 分析儀并采用具有等摩爾響應(yīng)的濕法化學(xué)氧化技術(shù)，可對鹽水中的總氮進(jìn)行在線測量。
典型測量范圍：0–2.5 mg/l TN（1）
濕氯中的氫氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生氫氣
濕中的氫氣（H2）濃度關(guān)鍵，尤其是采用膜電解池法生產(chǎn)時(shí)。因?yàn)槟さ膿p壞，在數(shù)秒鐘內(nèi)即可發(fā)生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會(huì)發(fā)生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個(gè)在線分析儀系統(tǒng)，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內(nèi)。
響應(yīng)時(shí)間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
濕氯中的氧氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
驗(yàn)證和控制膜的氧氣滲透電解池陽側(cè)的氧氣濃度可指示出膜的狀況和性能。膜的使用時(shí)間越長，因鹽水中的雜質(zhì)堵塞所產(chǎn)生的變化就越大。在發(fā)生某種輕度的堵塞時(shí)，須將電上的電解電壓才能在陽處獲得足量的電解。在過某個(gè)值之后，H2O 開始分解，形成氧氣。通過對濕中的氧氣進(jìn)行在線測量，就可產(chǎn)生電解工藝的條件，并且可將這種測量結(jié)果用作耗氯裝置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）裝置）的初始數(shù)值，從而保持氧氣（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型測量范圍：0-2%O2（1）
干氯中的氫氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生氫氣濕中的氫氣（H2）濃度關(guān)鍵，尤其是采用膜電解池法生產(chǎn)時(shí)。因?yàn)槟さ膿p壞，在數(shù)秒鐘內(nèi)即可發(fā)生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會(huì)發(fā)生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個(gè)在線分析儀系統(tǒng)，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內(nèi)。
響應(yīng)時(shí)間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
干氯中的水分在線監(jiān)測系統(tǒng)
在線測量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
監(jiān)測水分含量，以控制干燥機(jī)工藝含水分的（>12mg/l H2O）對于在干燥機(jī)后面的其他氯處理中使用的很多材料都具有腐蝕性。因此，需要對進(jìn)行干燥，以發(fā)生腐蝕。具有有限干燥能力的工藝干燥機(jī)將執(zhí)行這一干燥過程。為了在發(fā)生飽和時(shí)進(jìn)行再生，需使用多臺干燥機(jī)。濕的干燥過程需要通過在線測量（Cl2）中的水分（H2O）進(jìn)行控制。
典型測量范圍：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中鹽水中的鈣鎂離子在線監(jiān)測系統(tǒng)
對鹽水質(zhì)量進(jìn)行控制以膜的損壞
從水銀電解法改為膜電解法后，鹽水的純度就變得關(guān)鍵。鹽水純化工藝的功能不正常會(huì)造成較高的 Ca＋＋和 Mg＋＋濃度，從而可能損害膜的性能。在膜被鈣鹽和鎂鹽堵塞的情況下，用電成本就會(huì)不可逆轉(zhuǎn)地增加。后，可能需要將膜更換。典型測量范圍：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中鹽水中總氮在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生三氯化氮。通過在上游控制鹽水中的總氮（TN），可以采取要的工藝措施來在液化過程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新開發(fā)的 TONI®Special 分析儀并采用具有等摩爾響應(yīng)的濕法化學(xué)氧化技術(shù)，可對鹽水中的總氮進(jìn)行在線測量。
典型測量范圍：0–2.5 mg/l TN（1）
濕氯中的氫氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生氫氣
濕中的氫氣（H2）濃度關(guān)鍵，尤其是采用膜電解池法生產(chǎn)時(shí)。因?yàn)槟さ膿p壞，在數(shù)秒鐘內(nèi)即可發(fā)生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會(huì)發(fā)生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個(gè)在線分析儀系統(tǒng)，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內(nèi)。
響應(yīng)時(shí)間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
濕氯中的氧氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
驗(yàn)證和控制膜的氧氣滲透電解池陽側(cè)的氧氣濃度可指示出膜的狀況和性能。膜的使用時(shí)間越長，因鹽水中的雜質(zhì)堵塞所產(chǎn)生的變化就越大。在發(fā)生某種輕度的堵塞時(shí)，須將電上的電解電壓才能在陽處獲得足量的電解。在過某個(gè)值之后，H2O 開始分解，形成氧氣。通過對濕中的氧氣進(jìn)行在線測量，就可產(chǎn)生電解工藝的條件，并且可將這種測量結(jié)果用作耗氯裝置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）裝置）的初始數(shù)值，從而保持氧氣（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型測量范圍：0-2%O2（1）
干氯中的氫氣在線監(jiān)測系統(tǒng)
提供裝置保護(hù)，發(fā)生氫氣濕中的氫氣（H2）濃度關(guān)鍵，尤其是采用膜電解池法生產(chǎn)時(shí)。因?yàn)槟さ膿p壞，在數(shù)秒鐘內(nèi)即可發(fā)生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會(huì)發(fā)生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個(gè)在線分析儀系統(tǒng)，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內(nèi)。
響應(yīng)時(shí)間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應(yīng)器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
