對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

　　高恒溫油槽產(chǎn)品特點(diǎn)：
　　節(jié)約能源--在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。
　　效率更高--一臺循環(huán)水設(shè)備可同時(shí)滿足多臺外部設(shè)備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實(shí)驗(yàn)。
　　控溫--PID控溫技術(shù)，內(nèi)置PT100傳感器，控溫高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀
　　性高――具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)等多種保障功能。
　　
　　低溫不凍液配比
　　A乙二醇水溶液：乙二醇／水 55／45（-30℃），70／30（-40℃）
　　B丙三醇水溶液：丙三醇／水 70／30（-30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20＝1079㎏／m3（-30℃）（-40℃）2.丙三醇水溶液：P20＝1182.6㎏／m3（-30℃）不凍液用水代替時(shí)，其溫度須在0℃以上。

其他說明

類別	單箱			雙箱			三箱
型號	HK-GJ-10H	HK-GJ-10F	HK-GJ-10L	HK-GJ-20H	HK-GJ-20F	HK-GJ-20L	HK-GJ-30H	HK-GJ-30F	HK-GJ-30L
溫度范圍(℃)	0~150	-20~150	-40~150	0~150	-20~150	-40~150	0~150	-20~150	-40~150
溫度	0~30℃/0.005℃      0.01℃
勻均度	&plun;0.005℃
分辨率	0.001℃_0.01℃
內(nèi)箱尺寸(W*H*D)mm	500*350*420			580*300*350			580*300*350
冷卻方式	壓縮機(jī)制冷			內(nèi)部循環(huán)水	壓縮機(jī)制冷		壓縮機(jī)制冷
控制器	日本島電SR23  0.1級高斜率控制器
試驗(yàn)介質(zhì)	0度以下可用工業(yè)酒精  25度以上可用環(huán)烷烴,烷烴和芳香烴(變壓器油)
攪拌方式	循環(huán)馬達(dá)攪拌
電源	AC220V 50Hz