CDW-2000D微機(jī)控制轉(zhuǎn)向節(jié)熒光磁粉探傷機(jī)
　　設(shè)計(jì)介紹
　　一、設(shè)備概述
　　CDW-2000D微機(jī)控制轉(zhuǎn)向節(jié)熒光磁粉探傷機(jī)，可使用濕法磁粉探傷對(duì)轉(zhuǎn)向節(jié)等叉形件進(jìn)行表面及近表面探傷的半自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備。該設(shè)備采用分立組合式結(jié)構(gòu)、三路磁化電源、PLC可編程控制對(duì)轉(zhuǎn)向節(jié)性復(fù)合磁化即可檢出轉(zhuǎn)向節(jié)表面及近表面因鍛造、淬火、加工等引起的各種細(xì)微缺陷。具有檢查效率高、實(shí)用的優(yōu)點(diǎn)。
　　二、主要技術(shù)參數(shù)
　　1.周向磁化電流：兩路AC：0-2000A（值）分別連續(xù)可調(diào)
　　2.縱向磁化磁勢(shì)：AC：0-20000AT（值）連續(xù)可調(diào)
　　3.電間距：200-500　mm可調(diào)
　　4.探傷節(jié)拍：20－60秒/件（程序可調(diào)）
　　5.運(yùn)行方式：手動(dòng)、單周循環(huán)、自動(dòng)運(yùn)行
　　6.工件方式：?jiǎn)温贰陕窂?fù)合磁化、三路復(fù)合磁化
　　7.探傷靈敏度：A型試片顯示清淅
　　8.退磁后剩磁　160A/m（20e）
　　9.暫載率　30％
　　10.電源：三相四線380V　50HZ　160A
　　11.氣源：0.4-0.8Mpa（氣源用戶自備）
　　12.紫外線強(qiáng)度：距工件400mm處1200W/CM2
　　13.外型尺寸：長(zhǎng)寬高　mm