該系統(tǒng)專門針對光伏太陽能所需要的鋁電鍍膜設計，分為7個真空室：進料室、輝光清洗室、過渡室、濺射室1＋濺射室2、傳輸室、緩沖室、出料室。系統(tǒng)整體設計嚴格，采用分子泵高真空機組，可配備高濺射效率的平面靶或旋轉(zhuǎn)靶，采用直流濺射或中頻濺射，可以率的濺射AL膜、ITO膜、SIO2膜、銀膜、鉻膜、TiO膜等。
　　設備主要技術參數(shù)：
　　真空連續(xù)式鍍膜流水線配置表
　　序號  項目  規(guī)格及說明
　　1  設備主體  
　　1.1  外形尺寸  12.6m*2.4*1.6m（長*寬*高）
　　1.2  整體重量  17噸
　　2  傳輸部分  
　　2.1  工件盤尺寸  1210*600mm
　　2.2  驅(qū)動電機  LENZE　MDSKSRS036-13
　　3  真空系統(tǒng)  
　　3.1  K1進料室泵組  PAC250＋WKP500A
　　3.2  K2清洗室泵組  DUO65＋TMH1001
　　3.3  K3傳輸室泵組  TMH1001
　　3.4  K4-1鍍膜室泵組  TMH1001＋TMH521
　　3.5  K4-2鍍膜室泵組  TMH1001＋TMH521
　　3.6  K5傳輸室泵組  TMH1001　PAC90＋WKP500A　DUO6
　　3.7  K6過渡室泵組  DUO65＋TMH1001
　　3.8  K7出料室泵組  PAC250＋WKP500A
　　3.9  冷凝泵  POLYCOLD　PFC-1102HC
　　4  真空壓力檢測  
　　4.1  皮拉尼規(guī)  TPR　265
　　4.2  全量程檢測真空計  PKR251
　　4.3  過程壓力測量  MKS　Baratron627B
　　4.4  壓力開關  PN3009
　　5  氣流控制系統(tǒng)  
　　5.1  氣流量控制器  MKS　2179A
　　6  濺射系統(tǒng)及電源  
　　6.1  輝光清洗電源  霍庭格　TIE　10/100P
　　6.2  濺射電源  霍庭格　TIG　DCS30
　　6.3  清洗電尺寸  580*160
　　6.4  陰濺射靶尺寸  900*240
　　7  自動化控制系統(tǒng)  
　　7.1  機  SEMITIC　PANEL　PC670
　　7.2  可編程控制器  西門子　PROFIBUS　網(wǎng)絡　S-318CPU
　　8  外圍配置及要求  
　　8.1  電源輸入要求  380V　240KW
　　8.2  冷水機  K-2-38/5-2
　　8.3  壓縮空氣  壓力6-7BAR　2-3立方/小時
　　8.4  氮氣  25立方/小時
　　8.5  氬氣  120L/小時
　　8.6  環(huán)境要求  15-35度濕度〈70%
　　8.7  設備噪音指數(shù)  〈70分貝