M-NH3分析儀技術(shù)優(yōu)勢(shì)
?無(wú)其他背景氣體干擾
?適用于高溫、高粉塵、高水汽的惡劣檢測(cè)環(huán)境。
?快速的響應(yīng)時(shí)間：1秒
?高靈敏度：依賴(lài)于光程，靈敏度可達(dá)1ppb
?光纖/同軸信號(hào)線(xiàn)的連接方式實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)點(diǎn)的遠(yuǎn)程監(jiān)測(cè)
?采用可調(diào)式二管激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)
?短期性、長(zhǎng)期性、現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)都可適用
?檢測(cè)下限低
?便于攜帶，安裝靈活，堅(jiān)固耐用，測(cè)量
?運(yùn)行成本低，系統(tǒng)無(wú)漂移，維護(hù)量少
?性能穩(wěn)定，無(wú)需預(yù)處理系統(tǒng)
M-NH3分析儀應(yīng)用
1）SCR（選擇性催化還原）法脫銷(xiāo)工藝中，反應(yīng)器出口尾部煙氣中的逃逸NH3濃度監(jiān)測(cè)。
2）SNCR（選擇性非催化還原）法脫銷(xiāo)工藝中，爐膛出口尾部煙道中逃逸NH3濃度監(jiān)測(cè)。
3）其他工業(yè)生產(chǎn)工藝流程中，煙道或管道內(nèi)NH3濃度監(jiān)測(cè)。
技術(shù)參數(shù)
光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（探桿式）
檢測(cè)下限
應(yīng)用領(lǐng)域
?無(wú)其他背景氣體干擾
?適用于高溫、高粉塵、高水汽的惡劣檢測(cè)環(huán)境。
?快速的響應(yīng)時(shí)間：1秒
?高靈敏度：依賴(lài)于光程，靈敏度可達(dá)1ppb
?光纖/同軸信號(hào)線(xiàn)的連接方式實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)點(diǎn)的遠(yuǎn)程監(jiān)測(cè)
?采用可調(diào)式二管激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)
?短期性、長(zhǎng)期性、現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)都可適用
?檢測(cè)下限低
?便于攜帶，安裝靈活，堅(jiān)固耐用，測(cè)量
?運(yùn)行成本低，系統(tǒng)無(wú)漂移，維護(hù)量少
?性能穩(wěn)定，無(wú)需預(yù)處理系統(tǒng)
M-NH3分析儀應(yīng)用
1）SCR（選擇性催化還原）法脫銷(xiāo)工藝中，反應(yīng)器出口尾部煙氣中的逃逸NH3濃度監(jiān)測(cè)。
2）SNCR（選擇性非催化還原）法脫銷(xiāo)工藝中，爐膛出口尾部煙道中逃逸NH3濃度監(jiān)測(cè)。
3）其他工業(yè)生產(chǎn)工藝流程中，煙道或管道內(nèi)NH3濃度監(jiān)測(cè)。
技術(shù)參數(shù)
| 量 程 | 0～20ppm,0～3000ppm內(nèi)任意設(shè)定 |
| 檢測(cè)下限 | 0.25ppm/m光徑 |
| 響應(yīng)時(shí)間 | ≤1S |
| 激 光 器 | 近紅外二管激光器 |
| 校 正 | 出廠(chǎng)設(shè)定，無(wú)需用戶(hù)定期設(shè)定 |
| 被測(cè)氣體溫度 | ≤1000℃ |
| 被側(cè)氣體壓力 | 25～2000mbar |
| 光 程 | ≤25米 |
| 系統(tǒng)漂移 | 無(wú)漂移，不受溫度，壓力等系統(tǒng)部件的老化的影響 |
| 操作軟件 | 光譜軟件2011 |
| 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) | 內(nèi)置2GB閃存 |
| 電 源 | 220VAC |
| 數(shù)據(jù)通訊接口 | 以太網(wǎng)、RS232 |
| 分析控制器尺寸 | 25×15×28cm(L×W×H) |
| 重量 | 4KG |
光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（探桿式）
| 探桿長(zhǎng)度 | 1800mm（可根據(jù)用戶(hù)要求延長(zhǎng)） |
| 探桿外徑 | DN60 |
| 材質(zhì) | 不銹鋼 |
| 光學(xué)窗口 | 熔融石英，A/R 鑲膜 |
| 被檢測(cè)氣體 | ≤1000℃，（5—59）RH，（25—2000）mba |
| 光學(xué)部件 | （-40—65）℃，（5—95）RH，（25—2000mba） |
| 安裝方式 | 直接式 |
檢測(cè)下限
| CO | 30 ppm | 38mg/m3 | H2O | 0.1 ppm | 0.08 mg/m3 |
| CO2 | 30 ppm | 59 mg/m3 | H2S | 5 ppm | 8 mg/m3 |
| CH4 | 0.5 ppm | 0.36mg/m3 | NH3 | 0.3 ppm | 0.23 mg/m3 |
| HCL | 0.2 ppm | 0.32mg/m3 | 15 ppm | 20 mg/m3 | |
| HF | 0.03 ppm | 0.03 mg/m3 | O2 | 100 ppm | 140 mg/m3 |
| 電解鋁 | HF | 化工 | HF, H2O |
| 鋼鐵 | CO, CO2, O2, H2O | 廢水處理 | H2S |
| 火電廠(chǎng) | NH3, CH4 | 制陶業(yè) | HF |
| 電解鎳 | H2S, CO, CO2 2, | 水泥制造 | CO, CO2, NH3, H2O, O2 |
| 電解銅 | 填埋 | H2S, CH4, NH3 | |
| 石化 | HF, H2S、H2O | 煙草加工 | CO, CO2 |
| 核電、核加工 | HF, D2O, HDO | 汽車(chē)尾氣 | CO, CO2 (HC, ) |
| 可檢測(cè)氣體 | HF（氟化氫），HCI(氯化氫)，HBr(溴化氫)，HI（碘化氫），HCN（），CO（一氧化碳），CO2（二氧化碳），CH4（甲烷），C2H2（乙炔），C2H4（乙烯），C2H6（乙烷），C3H8（丙烷），CH2CHCL(氯乙烯)，（一氧化氮），2（二氧化氮），NH3（氨氣），H2S（硫化氫），H2O（水），O2（氧氣），D2O（重水），HOD（半重水） | ||
