光發(fā)射顯微鏡 微光顯微鏡emmi漏電定位失效分析
光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式，不可少的分析工具。器件在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造過程中有緣缺陷，或者期間經(jīng)過外界靜電擊穿，均會(huì)造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下，內(nèi)部形成流動(dòng)電流，漏電位置的電子會(huì)發(fā)生遷移，形成電能向光能的轉(zhuǎn)化，即電能以光能的方式釋放，從而形成200nm~1700nm。光發(fā)射顯微鏡主要利用偵測器，通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的，從而精準(zhǔn)的定位到器件的漏電點(diǎn)。我司推出的P-100光發(fā)射顯微鏡(EMMI),在同業(yè)中具有的性價(jià)比,并憑借良好的售后服務(wù),占領(lǐng)市場.目前大中國地區(qū)的失效分析客戶有: 上海宜碩、深圳宜智發(fā)、上海閎康、上海礬詮、廣州五所、北京電科院、東南大學(xué)、樂山菲尼克斯、深圳明微。。。。。。
微光顯微鏡emmi漏電定位失效分析
Junction Leakage Oxide Leakage
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D Damage Avalanche-20x Backside Image
Poly Filaments Backside Observation
微光顯微鏡emmi漏電定位失效分析
System | Items | Specification |
camera | Cooling CCD Camera | |
Cooling Silicon CCD | -65 ℃ ",Forced Air +4 stage Peltier Cooling | |
Pixelsize | 24umx24um | |
Roluiion | 512 x512 | |
High QE | UV~NIR | |
QE At 1000nm | >=20% | |
Dual Read Out Mode | Fast Scan Mode 2.5MHZ /Pixel | |
Slow Scan Mode (High Sensitivity) 0.156MHz/Pixel | ||
Dark Current | <=0.17 electron/pixel/s | |
Readout noise | 7 electron(r.m.s) | |
Dynamic range | 32875:1 | |
A/D Converter | 16 bit | |
Readout/control Interface | IEEE 1394 | |
Exposure Time | 20ms~7200s | |
Contrast enhancement | Max 16 x | |
Microscope | High Pricion Motorized XYZStage | |
Stage Rolution | 0.1um | |
Accuracy | ±1um | |
X Stroke (Moving Range) | >50mm | |
Y Stroke(Moving Range | >30 mm | |
Z Stroke | >100mm | |
Motorized Lens Changer With Optics | 4 hol/RS232 Control Interface | |
Light Box | Dual Light Source(Visible ,NIR)Auto Switch | |
NIR Light Tranission | >70% | |
NIR Lens | 2.5x,5x,20x,100x | |
Eyepiec | 10x | |
Control Console | X/Y/Z/Lens Change/Light Adjust | |
Auto Lens Alighment | Accuracy<5um | |
Pattern/Emission Optics Switch | ||
InGaAs camera | 冷卻方式 | cooling down to -70攝氏度 |
偵測波長范圍 | 900～1700nm | |
解析度 | 320*256（軟件能力640*512） | |
QE Range | QE@1300nm>70% | |
Pixel Size | 30um*30um | |
High Gain | >300sec | |
Dark Box With | Inteligent Temperature Control Light | |
High Stable Anti-Vibration Table |
