X熒光鍍層測厚儀Thick800A_江蘇天瑞儀器股份有限公司

X熒光鍍層測厚儀即膜厚測試儀的工作原理：
若一個(gè)電子由軌道游離，則其他能階的電子會自然的跳至他的位置，以達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài)，此種不同能階轉(zhuǎn)換的過程可釋放出能量，即X-射線。因?yàn)楦髟氐拿恳粋€(gè)原子的能階均不同，所以每一元素軌道間的能階差也不同相同。 
下述可描述X-射線熒光的特性：若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個(gè)電子進(jìn)入K 軌道，一個(gè)K軌道上的電子已事先被游離，另一個(gè)電子即代替他的地位，此稱之為K 輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M 軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個(gè)電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L輻射。同樣的L 輻射可劃分為Lα 輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ 輻射，此是由N 軌道之電子跳入L 軌道中 。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。
原子的特性由原子序來決定，亦即質(zhì)子的數(shù)目或軌道中電子的數(shù)目，即如圖所示特定的X-射線能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會造成不同的能量差。 
特定的X-射線可由比例計(jì)數(shù)器來偵測。當(dāng)輻射撞擊在比例器后，即轉(zhuǎn)換為近幾年的脈波。電路輸出脈沖高度與能量撞擊大小成正比。由特殊物質(zhì)所發(fā)出的X-射線可由其后的鑒別電路記錄。 
使用X-射線熒光原理測厚，將被測物置于儀器中，使待測部位受到X-射線的照射。此時(shí)，特定X-射線將由鍍膜、素材及任何中間層膜產(chǎn)生，而檢測系統(tǒng)將其轉(zhuǎn)換為成比例的電信號，且由儀器記錄下來，測量X-射線的強(qiáng)度可得到鍍膜的厚度。

在有些情況，如：印刷線路板上的IC導(dǎo)線，接觸針及導(dǎo)體的零件等測量要求較高 ,一般而言，測量鍍膜厚度基本上需符合下述的要求： 
1.不破壞的測量下具高精密度。 
2.極小的測定面積。 
3.中間鍍膜及素材的成份對測量值不產(chǎn)生影響。 
4.同時(shí)且互不干擾的測量上層及中間鍍膜 。 
5.同時(shí)測量雙合金的鍍膜厚及成份。 
而X-射線熒光法就可在不受素材及不同中間膜的影響下得到高精密度的測量。

二.主要特點(diǎn) 
1.無損、、快速測量各種電鍍層的厚度. 
2.電鍍層可以是單層/雙層/三層 
3.鍍金/鍍銀/鍍鎳/鍍銅等都可以測量 
4.有電鍍液成份分析以及金屬成份分析等軟件 
5.易操作/易維護(hù) 
6.準(zhǔn)直器程控交換系統(tǒng) 多可同時(shí)裝配6種規(guī)格的準(zhǔn)直器，程序交換控制 
多種規(guī)格尺寸準(zhǔn)直器任選： 
－圓形，如4、6、8、12、20 mil等 
－矩形，如1x2、2x2、0.5x10、1x10、2x10、4x16等 
7.測量斑點(diǎn)尺寸 
在12.7mm聚焦距離時(shí)，小測量斑點(diǎn)尺寸為：0.15 x 0.15 mm(使用0.15 x 0.15 mm準(zhǔn)直器) 
在12.7mm聚焦距離時(shí)，測量斑點(diǎn)尺寸為：0.38 x 0.42 mm(使用0.30 x 0.30mm準(zhǔn)直器)

產(chǎn)品介紹

金屬鍍層測厚儀俗稱X射線熒光膜厚儀、鍍層膜厚儀、膜厚儀、膜厚測試儀、金鎳厚測試儀、電鍍膜厚儀等；精密測量金屬電鍍層的厚度；主要應(yīng)用在：電路板、端子連接器、LED、半導(dǎo)體、衛(wèi)浴潔具、五金工具、五金電鍍、珠寶首飾、汽車配件、檢測機(jī)構(gòu)以及研究所和高等院校等。

性能特點(diǎn)

滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求

φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點(diǎn)的需求
高移動平臺可定位測試點(diǎn)，重復(fù)定位小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動定位測試高度
定位激光確定定位光斑，確保測試點(diǎn)與光斑對齊
鼠標(biāo)可控制移動平臺，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測試口高度敏感性傳感器保護(hù)

技術(shù)指標(biāo)

型號：Thick 800AXRF鍍層測厚儀

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。 
同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
任意多個(gè)可選擇的分析和識別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。 
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm 

樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg

標(biāo)準(zhǔn)配置

開放式樣品腔。

精密二維移動樣品平臺，探測器和X光管上下可動，實(shí)現(xiàn)三維移動。
雙激光定位裝置。
鉛玻璃屏蔽罩。 
Si-Pin探測器。
信號檢測電子電路。
高低壓電源。
X光管。
高度傳感器
保護(hù)傳感器
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)

應(yīng)用領(lǐng)域及圖片

黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測.
金屬鍍層的厚度測量, 電鍍液和鍍層含量的測定。
主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷售和檢測機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。

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