原理

測定每種化學元素的氣態(tài)原子或離子受激后所發(fā)射的特征光譜的波長及強度來確定物質(zhì)中元素組成

和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅、磷、硫等少量的非金屬。

儀器技術(shù)參數(shù)

靈敏度：低質(zhì)量數(shù) Li(7):50 Mcps/ppm；中質(zhì)量數(shù) Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高質(zhì)量

數(shù) Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)

檢測限：低質(zhì)量數(shù)Be(9):0.5ppt；中質(zhì)量數(shù)In(115):0.1ppt；高質(zhì)量數(shù)Bi(209):0.1ppt

氧化物干擾: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)

雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:3.0

同位素比: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

質(zhì)譜范圍：2-260 amu

豐度靈敏度：低質(zhì)量端：5x10-7；高質(zhì)量端: 1x10-7 

送樣要求

固體樣品，需提供100mg以上樣品，待測元素的含量須小于0.1%，樣品應(yīng)烘干并磨碎至200目以

下。液體樣品，需提供2ml以上樣品，待測元素的濃度須小于ppm級別，并注明介質(zhì)種類（何種溶

劑、酸、堿種類）。

盡可能注明樣品的主要成份及待測元素的預(yù)期含量。樣品酸度小于5%、含鹽度小于0.02%、有

機物濃度小于3%。

  金、鉑、鈮、鉭、鈀等金屬礦石的工業(yè)品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS測試。其余金屬

礦物則不宜用ICP-MS來測試含礦元素（可送AAS或者XRF測試）。

應(yīng)用領(lǐng)域

環(huán)境試樣：如淡水、海水、巖石、土壤、污泥、固液廢棄物等

半導體的各種材料、試劑的痕量污染物分析：如試劑中痕量金屬元素分析，高屬的雜質(zhì)元素分析等.

食品分析：如奶粉、煙、酒、飲料、油、大米、小麥、肉類、魚類、火鍋底料等

其他分析：紡織品、化妝品、玻璃鍍層，陶瓷釉料，橡膠塑料等物質(zhì)中的金屬元素分析.

常見適用標準

GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等