二氧化硅拋光液實驗室高速納米均質機 

氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、**光學器件、寶石等的拋光加工。

應用領域

1、 光通訊領域，配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產(chǎn)品，能達到超精細拋光效果，拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷，3D指標和反射衰減指標達到國際標準。2、 硬盤基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點。3、 硅晶圓、藍寶石等半導體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）*小的質量表面。4、其他領域的應用，如不銹鋼、光學玻璃等領域，拋光后能達到良好的拋光效果

上海依肯自主研發(fā)的分體式三級均質機，具有高轉速，低能耗，低噪音，高壽命等優(yōu)勢，經(jīng)過IKN研發(fā)部全體員工的不懈努力，終于解決了IKN三級分體式均質機的提速問題。市場上一般使用的均質機，由于定轉子精度以及機械密封原因，轉速**只能達到2910轉，而IKN **研發(fā)的三級粉體式均質機將轉速提高大了9000轉，從而更好的解決了市場的需求。

高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復，*終得到穩(wěn)定的高品質產(chǎn)品。

主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產(chǎn)。適宜的溫度，壓力與粘度參數(shù)與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

ERS2000系列高速分散機設備選型表

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3 參數(shù)內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的**程度而定。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不同，正確的參數(shù)以提供的實物為準

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