注射用鹽酸頭孢吡肟實驗室高速均質機 

注射用鹽酸頭孢吡肟，本品可用于治療成人和2月齡至16歲兒童上述敏感細菌引起的中至重度感染，包括下呼吸道感染（肺炎和支氣管炎），單純性下尿路感染和復雜性尿路感染（包括腎盂腎炎）、非復雜性皮膚和皮膚軟組織感染、復雜性腹腔內感染（包括腹膜炎和膽道感染）、婦產科感染、敗血癥、以及中性粒細胞減少伴發(fā)熱患者的經驗治療。也可用于兒童細菌性腦脊髓膜炎。懷疑有細菌感染時應進行細菌培養(yǎng)和藥敏試驗，但是因為頭孢吡肟是一革蘭陽性和革蘭陰性菌的**殺菌劑，故在藥敏試驗結果揭曉前可開始頭孢吡肟單藥治療。對疑有厭氧菌混合感染時，建議合用其他抗厭氧菌藥物，如甲硝唑進行初始治療。一旦細菌培養(yǎng)和藥敏試驗結果揭曉，應及時調整治療方案。

藥物相互作用

和多數β－內酰胺抗生素一樣，由于藥物的相互作用，頭孢吡肟溶液不可加至甲硝唑、萬古霉素、慶大霉素、妥布霉素或硫酸奈替米星、氨茶堿溶液中。頭孢吡肟濃度超過40mg/ml時，不可加至氨芐青霉素溶液中。如有與頭孢吡肟合用的指征，這些抗菌素應與頭孢吡肟分開使用。

IKN均質機工作原理：**、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復，*終得到穩(wěn)定的高品質產品。

IKN高速均質機，主要用于微乳液及超細懸浮液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產。適宜的溫度，壓力與粘度參數與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫(yī)藥生產。

從設備角度來分析，影響均質效果因素有以下幾點：

1.均質頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.均質頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.均質頭的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、均質時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   

               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。

IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個*重要因素，*高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的

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