IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高速研磨機(jī)/高速膠體磨改進(jìn)式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨

催化劑漿料制備關(guān)鍵點(diǎn)：

穩(wěn)定均一：①減少尾端顆粒的數(shù)量②粒徑分布窄

分散性好：減少鉑炭催化劑大粒子的團(tuán)聚

在漿料生產(chǎn)過程中，常見的問題包括：

1.提高催化劑活性

減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性，但未分散的顆粒容易形成大團(tuán)聚物，導(dǎo)致顆粒尺寸增大、比表面積減小，從而降低催化活性。適當(dāng)?shù)姆稚⒂兄谔岣叽呋瘎┗钚?，進(jìn)而影響膜電極組件（MEA）的性能.

2.提高催化劑的穩(wěn)定性和均一性

燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間，粒徑分布窄，且在炭上均勻分散，不含有害雜質(zhì)（如氯）。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大，容易發(fā)生團(tuán)聚，因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高，這也是目前主要依賴進(jìn)口的原因之一.

3.減少催化劑用量和提高利用率

催化劑層（CL）一直面臨著陰極氧還原反應(yīng)（ORR）反應(yīng)動力學(xué)緩慢以及質(zhì)量傳輸過電位過高的問題，其中一個主要原因是CL上催化劑團(tuán)聚體中離聚物對鉑（Pt）的覆蓋。離聚物覆蓋在Pt表面會減少催化活性位點(diǎn)，導(dǎo)致ORR活性損失，而Pt表面高密度過厚的離聚物層則會導(dǎo)致質(zhì)量傳輸過電位增加。這些問題都與CL上團(tuán)聚體的結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結(jié)合，盡量使涂覆層更薄，從而提高催化劑的利用率.

4.連續(xù)性生產(chǎn)（穩(wěn)定性）

分散的鉑炭催化劑會隨著時間推移發(fā)生再聚集，因此分散好的漿料需要盡快進(jìn)行下一工序以形成催化基層。連續(xù)分散過程可以與催化劑漿料的涂布過程同步進(jìn)行，允許在分散后立即使用催化劑漿料進(jìn)行連續(xù)生產(chǎn)催化劑層。雖然在實(shí)際生產(chǎn)中，連續(xù)生產(chǎn)可以解決部分問題，但體系穩(wěn)定的漿料可以顯著降低工藝難度。

有很多應(yīng)用中，200-600目的顆粒度是不夠的，需要達(dá)到1-2微米甚至更小，常用的研磨設(shè)備以及研磨方式已經(jīng)難以滿足此技術(shù)要求。上海依肯在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上，研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī)，其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯齒形，自上而下齒槽深度由深到淺，定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近，再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速，當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后，瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進(jìn)入分散盤腔內(nèi)，根據(jù)物料的特性及處理量的要求，上海依肯提供2G，4M，6F，8SF不同規(guī)格的斜齒，對磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散，防止顆粒抱團(tuán)。

IKN模塊化設(shè)計的主要特點(diǎn)如下：

-直立式腔體結(jié)構(gòu)，物料可以全部進(jìn)入分散腔；

-無死角；

-良好的表面處理；

-符合CIP/SIP的清洗要求；

-低噪音；

-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316；

-小試、中試到量產(chǎn)，平穩(wěn)過渡；

-僅需簡單的更換功能模塊，即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求；

-衛(wèi)生設(shè)計，適合食品及制藥行業(yè)；

-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。

研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

技術(shù)及價格請來電:本公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

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