管線式珍珠粉超細研磨機，硬脂酸鈣研磨機，珍珠粉破碎機，珍珠粉研磨設(shè)備，珍珠粉膠體磨，珍珠粉濕法研磨機，超細研磨機，高剪切研磨機

珍珠粉實驗

1、原料：珍珠，水

2、用途：化妝品行業(yè)、醫(yī)藥行業(yè)、食品行業(yè)、保健品行業(yè)

3、粉體粒徑：

珍珠粉可以根據(jù)其顆粒直徑分為三類：

1）普通珍珠粉：粒度200目以上，可以達到國家基本要求

2）超細珍珠粉：細度1000目以上（或粒徑15微米以下）

3）納米珍珠粉：細度15萬目以上（或100納米以下）。珍珠粉越細，其加工工藝難度越高，價格越高，但是粉質(zhì)更細膩，吸收率更高，功效更好。

目前市場上正常銷售的是10μm（1250目左右），經(jīng)IKN管線式高剪切研磨分散機處理后的珍珠粉可以達到2-3μm（2000目左右）

珍珠粉的一般工藝：

1、預(yù)粉碎：先將完整珍珠洗凈初步破碎成顆粒狀；

2、研磨：使用IKN研磨分散機研磨，將已經(jīng)初步粉碎的顆粒狀珍珠按一定配比與水混合進入IKN管線式高剪切研磨分散機，珍珠粉在IKN研磨分散機中經(jīng)過數(shù)次循環(huán)后得出珍珠粉溶液，使用顯微鏡對物料粒徑進行初步檢測，珍珠粉粒徑達到2-3μm（2000目左右）即為合格；

3、噴霧干燥：使用噴霧干燥塔對已經(jīng)處理到2-3微米的珍珠粉溶液進行噴霧干燥，得出珍珠粉；

4、包裝，貼標簽；

珍珠粉研磨設(shè)備是利用是濕磨法將預(yù)粉碎后的珍珠與水按照一定的配比進行混合，然后進入IKN珍珠粉研磨設(shè)備進行循環(huán)極細研磨。IKN經(jīng)過多次試驗驗證，IKN研磨機、膠體磨、研磨分散機都可以達到極細研磨效果，其中研磨分散機研磨效果，可以達到2000目。

IKN珍珠粉超細研磨機的特點

一、針對珍珠粉處理的特殊性，使用IKN其它設(shè)備難以滿足珍珠粉生產(chǎn)廠家的高標準要求，IKN研發(fā)工程師特對已開發(fā)的研磨分散機進行技術(shù)完善，將研磨分散機標準轉(zhuǎn)速提高了一半，的轉(zhuǎn)速直接提高了設(shè)備的線速度，大大縮減了物料在研磨分散機里循環(huán)的次數(shù)，的提高了珍珠粉的生產(chǎn)效率。

二、超細研磨分散機是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

三、CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表 

研磨分散機 流量 輸出 線速度 功率 入口/出口連接

類型 l/h rpm m/s kW

CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65

CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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