高性能磁流變液潤滑劑均質(zhì)機，磁流變液高剪切研磨分散機，磁流變液緩沖劑濕法剪切機，MR流體納米高速膠體磨，進口工業(yè)化超高速分散機

IKN研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

現(xiàn)階段磁流變液的研究還是主要關(guān)注在油基磁流變液上，而關(guān)于制備水基磁流變液的報道較少。近幾年，隨著磁流變拋光技術(shù)的發(fā)展，水基磁流變液的研究與開發(fā)越來越受到重視。與其它載液相比“水不但成本低無污染”還能夠使微細磨料均勻地分散，同時水還具有良好的冷卻和洗滌潤滑作用，并且可促進拋光材料表面的水解，提高拋光效率，但是現(xiàn)有的水基磁流變材料磁性顆粒（一般為羰基鐵粉）密度大，與載液相容性差而容易沉降，特別是長期靜置后易結(jié)塊且難再分散而失去磁流變性能。因此，開展水基磁流變液穩(wěn)定性研究，開發(fā)一種與載液相容性好，不易沉降結(jié)塊的水基磁流變液，對提高相關(guān)產(chǎn)品的技術(shù)含量和市場競爭力，具有十分重要的意義。

磁流體力學(xué)主要應(yīng)用于三個方面：天體物理、受控?zé)岷朔磻?yīng)和工業(yè)。

磁流變液高剪切研磨分散機，磁流變液緩沖劑濕法剪切機，高性能磁流變液潤滑劑均質(zhì)機，MR流體納米高速膠體磨，進口工業(yè)化超高速分散機

磁流變液一般是由載液、微米或亞微米尺寸的鐵磁性顆粒、穩(wěn)定劑等組成的懸浮體系。磁流變液的特點是:在無外加磁場時，磁流變液呈牛頓流體狀態(tài)，流動性與載液基本相同。當(dāng)施加一外磁場后，體系粘度瞬間增大，從自由流動狀態(tài)變?yōu)榘牍虘B(tài)或固體狀態(tài)，體系的屈服強度和表觀粘度增加2～3個數(shù)量級。同時體系的熱力學(xué)、磁、光、聲等性質(zhì)也會發(fā)生大幅度的改變。其中體系的屈服強度和表觀粘度能夠受外加磁場的調(diào)控，隨著外加磁場強度的變化而變化。磁流變液的這種粘度隨外加磁場發(fā)生變化的效應(yīng)被稱為磁流變效應(yīng)。磁流變液的另一個特點是：當(dāng)撤除磁場后，顆粒又能迅速地恢復(fù)到自由狀態(tài)，整個材料的粘度也相應(yīng)降低，重新呈牛頓流體狀態(tài)，這種完全可逆的變化能在毫秒級的時間內(nèi)完成。磁流變液的這一可控特性使其可以在許多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，如機械、電子、航空航天、化工、能源、冶金、儀表、環(huán)保、醫(yī)療等。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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