型號/規(guī)格：620162#$%^163#$%^164#$%^165#$

產品描述：EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合...

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型號/規(guī)格：620162#$%^163#$%^164#$%^165#$

產品描述：EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合...

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型號/規(guī)格：URE-2000A型

產品描述：中國光電URE-2000A型光刻機精準度高，尺寸豐富，運動行程多樣化等特點。

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型號/規(guī)格：URE-2000A型

產品描述：中國光電URE-2000A型光刻機精準度高，尺寸豐富，運動行程多樣化等特點。

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型號/規(guī)格：PhableR 10018#$%^19#$貿易商%^141#$全新%^638#$%^20#$ 瑞士

產品描述：PhableR 100 光刻機提供了一種前所未有的功能，它是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶...

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型號/規(guī)格：PhableR 10018#$%^19#$貿易商%^141#$全新%^638#$%^20#$ 瑞士

產品描述：PhableR 100 光刻機提供了一種前所未有的功能，它是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶...

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型號/規(guī)格：可選擇102#$%^103#$%^139#$%^104#$美國

產品描述：高半自動光刻機

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型號/規(guī)格：可選擇102#$%^103#$%^139#$%^104#$美國

產品描述：高半自動光刻機

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產品描述：品牌：恩科優(yōu)（N＆Q） 　　型號：NXQ400-6 　　產地：美國 　　 　　一、產品簡介： 　　MYCRO原裝美國恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機（Mask　Aligner），是的光刻系統(tǒng)...

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產品描述：品牌：恩科優(yōu)（N＆Q） 　　型號：NXQ400-6 　　產地：美國 　　 　　一、產品簡介： 　　MYCRO原裝美國恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機（Mask　Aligner），是的光刻系統(tǒng)...

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型號/規(guī)格：N&Q4006

產品描述：品牌：恩科優(yōu)（N＆Q） 　　型號：NXQ400-6 　　 　　一、產品簡介： 　　MYCRO原裝恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機（Mask　Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領域有過35...

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型號/規(guī)格：N&Q4006

產品描述：品牌：恩科優(yōu)（N＆Q） 　　型號：NXQ400-6 　　 　　一、產品簡介： 　　MYCRO原裝恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機（Mask　Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領域有過35...

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型號/規(guī)格：pe700

產品描述：產地美國

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型號/規(guī)格：pe700

產品描述：產地美國

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型號/規(guī)格：手動光刻機102#$mikasa%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：手動光刻機，便宜，性能好。 產地；日本 可根據(jù)客戶具體要求，定制。 適合研發(fā)類用戶 曝光類型：單面 ◆曝光面積：≥φ115mm ◆曝光不均勻性：≤±3% ...

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型號/規(guī)格：手動光刻機102#$mikasa%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：手動光刻機，便宜，性能好。 產地；日本 可根據(jù)客戶具體要求，定制。 適合研發(fā)類用戶 曝光類型：單面 ◆曝光面積：≥φ115mm ◆曝光不均勻性：≤±3% ...

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型號/規(guī)格：Ushio102#$Ushio %^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：日本Ushio 公司是的半導體光刻設備光源供應商，占有份額。 ???? 特點： 、Ultr...

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型號/規(guī)格：Ushio102#$Ushio %^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：日本Ushio 公司是的半導體光刻設備光源供應商，占有份額。 ???? 特點： 、Ultr...

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型號/規(guī)格：USHIO102#$%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：詳細信息 UX-4系列全自動投影式光刻設備主要運用于大尺寸的LED芯片生產和研發(fā)。同時又可以運用于半導體MEMS芯片的新品開發(fā)和大批量生產。 特點： *限度...

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型號/規(guī)格：USHIO102#$%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本

產品描述：詳細信息 UX-4系列全自動投影式光刻設備主要運用于大尺寸的LED芯片生產和研發(fā)。同時又可以運用于半導體MEMS芯片的新品開發(fā)和大批量生產。 特點： *限度...

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