CDW-2000宇光多用半自動熒光磁粉探傷機(jī)的詳細(xì)信息

• 重量：(kg)
• 速度：——(千米/時)
• 阻性電流峰值：——(mA)
• 阻性電流：——(mA)
• 運行/試驗電壓值：——(KV)
• 全電流測量范圍：——(mA)
• 電源：(V)
• 行程小分辨率：
• 同期分辨率：(ms)
• 時間分辨率：(ppm)
• 端口電壓：(KV)
• 輸出方式：
• 避雷器功耗：——(W)
• 外觀尺寸：**(mm)

?一設(shè)備達(dá)標(biāo)體現(xiàn)：.1、按照GB/T3721--83及JB/T8290--1998標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行；2、按照ISO9001質(zhì)量體系對磁粉探傷機(jī)的設(shè)計程序文件執(zhí)行；3、根據(jù)需方工件的磁粉探傷工藝需求執(zhí)行。二設(shè)備構(gòu)成體現(xiàn)：?1 半自動熒光磁粉探傷檢測線系機(jī)電分立式結(jié)構(gòu)、半自動熒光磁粉探傷設(shè)備。主要由磁化電源、電氣控制系統(tǒng)、夾持磁化系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)觀察系統(tǒng)、磁懸液噴灑及回收系統(tǒng)、熒光探傷系統(tǒng)、退磁裝置等幾部分組成。三適用范圍2 適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的制動輪的表面及近表面因材料、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細(xì)微缺陷。四 ?設(shè)備獨具優(yōu)勢：1 該設(shè)備采用手動、自動兩種運行方式，電氣控制系統(tǒng)由工業(yè)PLC、人機(jī)界面（對話）專用觸模屏、控制元件、交流磁化控制電路、電流指示、過欠流報警系統(tǒng)等組成。既可實現(xiàn)手動控制（單步操作）又可實現(xiàn)自動控制。由進(jìn)口可編程控制器對設(shè)備進(jìn)行集中控制，其中PLC和人機(jī)界面為專用控制系統(tǒng)。2 可對設(shè)備工作的所有動作進(jìn)行程序化控制，對設(shè)備的各個關(guān)健狀態(tài)實時監(jiān)控。手動時，可進(jìn)行每個功能的單步獨立操作；自動時，該設(shè)備自動執(zhí)行PLC內(nèi)部程序，實現(xiàn)工件人工上料——平面旋轉(zhuǎn)90°至磁化工位——磁化機(jī)構(gòu)進(jìn)入——穿棒、噴淋、復(fù)合磁化——平面旋轉(zhuǎn)90°至旋轉(zhuǎn)觀察工位——平面旋轉(zhuǎn)90°至退磁工位退磁——人工下料等一系列動作的半自動化。交流磁化帶斷電相位控制，具有較高的剩磁穩(wěn)定度，既適用于連續(xù)法探傷檢測，又適用于剩磁法探傷檢測。復(fù)合磁化在工件上形成疊加磁場，性全方位顯示磁跡，具有較高的檢測效率。?

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