描述
PlasCalc-2000配有2048像元CCD高分辨率的光譜儀，等離子體光輻射測量范圍為200-1100nm，PlasCalc-2000進程控制系統(tǒng)可靠，其精密的數(shù)據(jù)采集和控制算法格外具有優(yōu)勢，對PC的模擬和數(shù)字輸入輸出功能也簡化了進程控制過程。PlasCalc-2000及其軟件系統(tǒng)在數(shù)據(jù)采集和信號處理上非常方便，波長、測量模式編輯器可以迅速產生有效的測量模式及各種測量模式的組合，適合于控制系統(tǒng)。
200-1100nm光譜范圍
1.0nm全高半寬分辨率
14位I/O D/A轉換
8個TTL數(shù)字I/O端口
4個0-10V模擬輸出端口
USB1.1接口
ProCess-2000參數(shù)
多達6通道的寬帶光譜數(shù)據(jù)采集
每個通道都可以獨立配置光譜范圍
小于0.3nm的光學分辨率
16個TTL數(shù)字I/O端口
8個1-10V模擬輸出端口
USB2.0接口
應用
通用過程監(jiān)控
表面清潔過程
保護膜
等離子體刻蝕
等離子室設備健康水平監(jiān)控
非常規(guī)過程處理
多晶硅平整化處理
新的加工過程優(yōu)化和監(jiān)控
PlasCalc-2000參數(shù)
