適用于大多數(shù)的固態(tài)材料的SEM和TEM樣品的制備。的定點(diǎn)磨削和樣品磨制狀況的隨時(shí)觀察功能,尤其適用于電子類產(chǎn)品的失效分析實(shí)驗(yàn)。
技術(shù)參數(shù):
1. 材料去除自動(dòng)控制:2微米;
2. 磨盤轉(zhuǎn)速:1~50轉(zhuǎn)/分
3. 磨制情況觀察:200倍觀察器;
4. 適用材料:微電子元件、金屬材料、陶瓷、礦物、復(fù)合物等;
5. 磨盤和制備表面;精密玻璃盤、金剛石磨料薄膜;
6. 附件包括;SEM和TEM卡具,樣品磨制后無需噴金,可直接進(jìn)行TEM實(shí)驗(yàn);
7. 其它性能,請(qǐng)參看該系統(tǒng)詳細(xì)資料。
主要特點(diǎn):
可使操作者有效的控制所需的材料的去除量,同時(shí)還能隨時(shí)的無需取下樣品即可觀察樣品的磨制情況,從而有效的提高工作的性和效率。

