- 品牌/商標(biāo):華洋
- 企業(yè)類型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:北京
ICP的原理:高頻電流通過電感線圈時,其周圍空氣中產(chǎn)生交變磁場H,這種交變磁場,使空間電離,但它仍是非導(dǎo)體。炬管內(nèi)雖有交變磁場卻不能形成等離子體。如果在管口用探漏儀等方式打幾個火花,使少量氬氣電離,產(chǎn)生電子和離子的“種子”,這時交變磁場就立即感應(yīng)這些“種子”,使其在相反的方向上加速并在炬管內(nèi)沿閉合回路流動,形成渦流。這時電子和離子被高頻場加速后,在運動中遭受氣流的阻擋就產(chǎn)生熱,達(dá)到高溫,同時發(fā)生電離,出現(xiàn)更多的電子和離子,而形成等離子火炬;由于高頻電流通過載體,具有趨膚效應(yīng)(skin effect)。即電流主要在導(dǎo)體表面薄層內(nèi)流動。頻率越高,等離子體的導(dǎo)電性越好,等離子體的加熱集中在周邊部位,通載氣時中心部分的溫度明顯下降,形成等離子體中心通道。霧化后的氣溶膠在中心通道中,蒸發(fā)、原子化、激發(fā)。
分析樣品的種類
n 用于多元素同時測定,及元素成分的定性和定量分析
n 金屬(鋼鐵、有色金屬)
n 地質(zhì)、礦物
n 化學(xué)、藥品、石油、樹脂、陶瓷
n 環(huán)境(自來水、環(huán)境水、土壤、大氣粉塵)
n 核工業(yè)材料
n 磁性材料、稀土材料
n 各種各樣樣品中的金屬元素
鋼鐵工業(yè)ICP的應(yīng)用:鋼材(材質(zhì)分析)
n 主要分析元素:S、P、Si、Mn、Cr、Ni、Cu、As、V、Mo、Pb、Zn、Nb、B、Sb、Re、C Ti Fe Al Sn等90種
n 五害元素:As、Sb、Pb、Sn、Bi
簡介:ICP單道掃描光譜儀
價格:面議 詳細(xì)說明: 射頻發(fā)生器(RF) (1)電路類型:電容三點式自激振蕩電路。 (2)工作頻率:40.68MHz (3)頻率穩(wěn)定性:<0.1% (4)輸出功率:800-1200W (5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2% (6)電磁場泄漏射強度:距機身30cm 電場強度E:<2V/m 進(jìn)樣裝置 (1)輸出工作線圈內(nèi)徑25mm.3匝 (2)炬管:三同心型.外徑20mm的石英炬管 (3)同軸型噴霧器外徑6mm (4)雙筒形霧室外徑34.5mm (5)氣路: ①等離子氣流量計(100—1000)L/h (1.6—16L/min) ②輔助氣流量計 (10-100)L/h (0.16—1.66L/min) ③載氣流量采用質(zhì)量流量計 由計算機控制 (0—5L/min)分光器 (1)光路:Czerny—Turner (2)焦距: 1000mm (3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度3600線/mm,刻線面積:80×1 10mm2 (可選用刻線密度2400線/mm,刻線面積:80×1 10mm2) (4)線色散率倒數(shù):0 26nm/mm (刻線密度3600線/mm) (5)分辯率:≤0.008nm (刻線密度3600線/mm) (6)掃描波長范圍:3600線/mm掃描波長范圍:1 95—500nm 2400線/ram掃描波長范圍:1 95—800nm (7)步進(jìn)電機驅(qū)動小步距:0 0006nm (8)出射、入射狹縫:20um (9)反射鏡規(guī)格:(78×105×1 6)mm (1 0)透鏡ф30,1:1成像 (1 1)分光器恒溫裝置:32。C±1。C 測光裝置 (1)光電倍增管規(guī)格:R21 2UH或R928 (2)光電倍增管負(fù)高壓:200—1000V穩(wěn)定性<0.05% (3)光電倍增管電流測量范圍:1 0-4~1 0-9 A (4)信號采集為V/F交換: 1 mV對應(yīng)100Hz 儀器主機參數(shù)體積 1560mm(長)×660mm(寬)×720mm(高)重量 200






