研究及小規(guī)模生產(chǎn)型：
微波功率：2.45GHz，6KW, 脈沖模式可選 (沉積速度和質(zhì)量)；
樣品臺：直徑75-100mm,旋轉(zhuǎn)襯底可選（大面積均勻性）;
真空系統(tǒng)：oil pump/dry pump，TMP可選（營造高真空基準(zhǔn)）；
控制方式：半自動或全自動(操作靈活)；
生長速率：30μm/h.
整體特點：專門生長大面積熱沉級、光學(xué)級多晶薄膜配置，適合于研發(fā)、小規(guī)模生產(chǎn)。
大面積光學(xué)級金剛石厚膜生產(chǎn)研究型：
微波功率：915MHz，30KW；
水冷襯底：直徑250mm或更大; 襯底加熱和襯底旋轉(zhuǎn)可選.
4個4英寸襯底, 加熱和旋轉(zhuǎn)襯底可選
真空系統(tǒng)：oil pump / dry pump+TMP（營造高真空基準(zhǔn)）；
控制系統(tǒng)：全自動控制（適合大批量生產(chǎn)）；
生長速率：30μm/h, 或更率
整體特點：專門大面積金剛石薄膜研究及生產(chǎn)配置；可獲得4-10英寸光學(xué)級金剛石厚膜，也可以用于研究合成曲面自支撐金剛石厚膜，請詳細(xì)咨詢！
