- 品牌/商標(biāo)：ELLITOP
- 企業(yè)類(lèi)型：制造商
- 新舊程度：全新
ES03是針對(duì)科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測(cè)量推出的高多入射角光譜橢偏儀，儀器波長(zhǎng)范圍從紫外到近紅外。
注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
ES03多入射角光譜橢偏儀用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k），也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
ES03系列適合于對(duì)樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)的檢測(cè)。
特點(diǎn)：
原子層量級(jí)的檢測(cè)靈敏度
國(guó)際先進(jìn)的采樣方法、高穩(wěn)定的器件、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量原子層量級(jí)的納米薄膜，膜厚達(dá)到0.05nm。秒級(jí)的快速測(cè)量
快速橢偏采樣方法、高信噪比的信號(hào)探測(cè)、自動(dòng)化的測(cè)量軟件，在保證高和準(zhǔn)確度的同時(shí)，10秒內(nèi)快速完成全光譜橢偏測(cè)量。膜厚測(cè)量范圍大
膜厚范圍從次納米量級(jí)到10微米左右。一鍵式儀器操作
對(duì)于常規(guī)操作，只需鼠標(biāo)點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的測(cè)量、建模、擬合和分析過(guò)程，豐富的模型庫(kù)和材料庫(kù)也同時(shí)方便了用戶(hù)的操作需求。
應(yīng)用：
ES03適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
ES03系列多種光譜范圍可滿(mǎn)足不同應(yīng)用場(chǎng)合。比如：
- ES03V適合于測(cè)量電介質(zhì)材料、無(wú)定形半導(dǎo)體、聚合物等的實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測(cè)。
- ES03U適合于很大范圍的材料種類(lèi)，包括對(duì)介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測(cè)，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體的臨界點(diǎn)，這對(duì)于測(cè)量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級(jí)到10微米左右）。
ES03可用于測(cè)量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
典型應(yīng)用如：
- 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
- 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類(lèi)、Al2O3表面鍍層和處理等；
- 生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等
ES03也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：
- 玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。
技術(shù)指標(biāo)：
| 項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 光譜范圍 | ES03V：370-1000nmES03U：245-1000nm |
| 光譜分辨率 | 1.5nm |
| 單次測(cè)量時(shí)間 | 典型10s,取決于測(cè)量模式 |
| 準(zhǔn)確度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測(cè)空氣時(shí)） |
| 膜厚測(cè)量重復(fù)性（1） | 0.05nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 折射率測(cè)量重復(fù)性（1） | 1x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 入射角度 | 40°-90°手動(dòng)調(diào)節(jié)，步距5°，重復(fù)性0.02° |
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度） |
| 樣品臺(tái)尺寸 | 可放置樣品尺寸：直徑170 mm |
| 樣品方位調(diào)整 | 高度調(diào)節(jié)范圍：0-10mm |
| 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° | |
| 樣品對(duì)準(zhǔn) | 光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) |
| 軟件 | ?多語(yǔ)言界面切換 |
| ?預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 | |
| ?安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員） | |
| ?方便的材料數(shù)據(jù)庫(kù)以及多種色散模型庫(kù) | |
| ?豐富的模型數(shù)據(jù)庫(kù) | |
| 選配件 | 自動(dòng)掃描樣品臺(tái)聚焦透鏡 |
