- 企業(yè)類(lèi)型：貿(mào)易商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：中國(guó)
準(zhǔn)分子紫外光清洗機(jī)
□ 自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，國(guó)際前沿光子處理技術(shù)；
□ 國(guó)際上玻璃清洗制程的主流技術(shù)；
□ 高效快速清洗；
□ 低溫大面積加工過(guò)程；
□ 瞬間開(kāi)啟和熄滅，節(jié)省工藝時(shí)間；
□ 安裝角度靈活方便，操作使用簡(jiǎn)單；
□ 電光轉(zhuǎn)化效率高，無(wú)廢舊回收問(wèn)題，節(jié)能環(huán)保；
□ 工件可在大氣中進(jìn)行清洗，便于生產(chǎn)線作業(yè)；
□ 可徹底清除物體表面的碳和有機(jī)污染物；
□ 干式清洗，無(wú)溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問(wèn)題；
□ 保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率；
□ 產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。
應(yīng)用領(lǐng)域：
主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過(guò)程中采用光清洗方法為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
可以去除的污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。
技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 EWC70翻蓋型（Desktop Style）
適用工件尺寸 4-12inches
光源配置 1x172nm
輸出波長(zhǎng) 172 nm
單燈光強(qiáng) 40mW/cm2
光照均勻度 ±3% （工件旋轉(zhuǎn)時(shí)）
光照時(shí)間設(shè)定 定時(shí)器，0-60 min
額定功率 70W
功率可變范圍 0-100%
燈啟動(dòng)時(shí)間 <1 s
真空反應(yīng)腔 SUS304不銹鋼
觀察視窗 KF50視鏡（可選）
工件臺(tái) 可調(diào)高度，靜止/旋轉(zhuǎn)（可選）
工件裝載方式 打開(kāi)翻蓋，露出工件臺(tái)，裝卸工件
進(jìn)出氣口 標(biāo)配2個(gè)，KF15法蘭接口
真空系統(tǒng)配置 機(jī)械泵（可選）
真空計(jì)（10-1Pa）及接口 KF15法蘭接口
臭氧中和器和排氣系統(tǒng) 可選
供電電源 230V/50Hz
“ON”指示器 有
外觀尺寸(長(zhǎng)x寬x高) 500x500x400mm
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