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Mycro

MYCRO的 NRIE-4000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一個(gè)單獨(dú)的反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系統(tǒng)，帶有shower-head氣體分布和水冷卻射頻滾筒，各向異向刻蝕。全自動(dòng)化控制，數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證，為用戶(hù)提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺(tái)。 應(yīng)用領(lǐng)域： 主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造?？涛g材料包括硅化合物和金屬材質(zhì)（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等）。     產(chǎn)品特點(diǎn)： NRIE-4000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)通過(guò)物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，進(jìn)行刻蝕以形成的圖形，具有選擇比較好、刻蝕速度快、重復(fù)性好、性?xún)r(jià)比較高等特點(diǎn)。 該系統(tǒng)通過(guò)對(duì)真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過(guò)程的全自動(dòng)控制，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證，從而獲得較高的刻蝕速率，并能地控制圖形的剖面，數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶(hù)提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺(tái)。 技術(shù)參數(shù)： 型號(hào)：NRIE-4000 RF電源：600 W， 13.5 MHz 真空系統(tǒng)：250L/s, 防腐蝕油泵, 帶節(jié)流閥裝置 刻蝕速率：40nm/min（與刻蝕材料和工藝有關(guān)） 刻蝕材料：硅化合物和金屬材質(zhì)（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等） 材料尺寸：可到8英寸 控制方式：全自動(dòng)化 反應(yīng)倉(cāng)材質(zhì)：鋁(Al),不銹鋼 電極尺寸：ø200mm 需要更詳細(xì)的MYCRO反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品資料， 請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中國(guó)營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!  / 400-6800-397轉(zhuǎn)813（北京）  / 400-6800-397轉(zhuǎn)823（上海）  / 400-6800-397轉(zhuǎn)833（廣州）  / 400-6800-397轉(zhuǎn)843（武漢） Email:   website: https://www.mycro.com.cn        客服熱線(xiàn)：400-8800-298