EMITECH K450X/K400X蒸發(fā)鍍碳儀
　　
　　K450X可使用數(shù)種碳絲在真空下進(jìn)行鍍膜。蒸鍍?yōu)楦鱾€(gè)方向，全自動(dòng)操作系統(tǒng)使得工作時(shí)間相對(duì)減少，5分鐘。
　　系統(tǒng)采用低電壓，大電流，電之間放置碳絲。
　　電裝置上裝備了保護(hù)快門，保護(hù)樣品在蒸碳除氣過程中免受熱輻射損害。當(dāng)完成了這個(gè)過程，快門自動(dòng)回縮，并且功率加到電上，從而引發(fā)了熔融碳絲的快速蒸發(fā)或稱“閃蒸”。然后，快門回到了保護(hù)位置。
　　控制可被預(yù)先選擇，以允許使用不同類型的碳絲。
　　由于樣品臺(tái)到電之間的距離可調(diào)以及全自動(dòng)控制功能，本儀器可進(jìn)行重復(fù)的蒸鍍沉積厚度。真空過程和外部旋轉(zhuǎn)真空泵均由本儀器控制。
　　
　　儀器特點(diǎn)
　　● 全自動(dòng)控制
　　● 自動(dòng)保護(hù)快門
　　● 沉積厚度均勻，可使用碳絲或碳棒
　　● 微控制器全自動(dòng)控制，也可選擇手動(dòng)設(shè)置參數(shù)控制
　　● 菜單驅(qū)動(dòng)“用戶”鍵輸入
　　
　　儀器優(yōu)點(diǎn)
　　● 容易操作
　　● 在碳絲除氣過程中保護(hù)樣品
　　● 可進(jìn)行復(fù)型樣品制備
　　● 多種用戶都容易操作
　　
　　性能指標(biāo)
　　儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
　　工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H
　　鐘罩：聚碳酸酯
　　重量：18Kg
　　碳源：碳絲
　　樣品臺(tái)：直徑為60 mm（到電距離為60mm），
　　具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
　　真空范圍：ATM - 1x10-2 mbar
　　安培計(jì)：0.50 Amps
　　低電壓：25 伏
　　除氣電流：可根據(jù)碳源類型選擇。
　　電源：230 伏 50Hz (10 amp max. 包括泵)