一、儀器的用途
　　XPH-300V透反射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等常用的實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態(tài)和各種變化。
　　專為材料學、生物化學、冶金學、化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態(tài)，結晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態(tài)觀察；地質材料偏光形態(tài)觀察；無機晶體材料觀察，對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。

　　二、技術參數
　　1.目鏡類別放大倍數視場（mm）
　　大視野目鏡　10Xφ18
　　分劃目鏡　10Xφ18
　　2.物鏡類別放大倍數數值孔徑（NA）蓋玻片厚
　　無應力平場
　　消色差物鏡　5X　0.12-
　　10X　0.25-
　　40X　0.65-
　　60X　0.85-
　　3.總放大倍數：40X---600
　　4.目鏡管：轉軸式（傾斜30°），內置檢偏器，可自由切換正常觀察與偏光觀察，推入式
　　勃氏鏡，中心可調，λ補償器，λ/4補償器，石英鍥補償器
　　5.照明：6V　20W鹵素燈，亮度可調，起偏器可360°旋轉有0、90、180、270四個讀數
　　反射照明：6V　20W鹵素燈，亮度可調，起偏器可旋轉；
　　6.載物臺：機械式附加旋轉臺面尺寸φ100mm，360°旋轉
　　7.調焦機構：粗微動同軸，齒輪轉動，帶限位及調節(jié)松緊機構
　　8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調
　　9.霉系統(tǒng)：霉
　　10.高偏光熔點熱臺　XPH-300
　?、俟ぷ鳒囟龋菏覝刂?20℃（可達350℃）
　?、谄鹗紲囟仍O定速率：50℃至300℃小于12min；300℃至50℃小于15min
　?、蹆x器溫度小讀數：0.1℃
　?、芗訜崤_溫度控制準確度：室溫-200℃時：±0.5℃；200-320℃時：±1℃
　　⑤起始溫度設定準確度：±1℃
　?、蘧€性升溫速率（℃/min）：0.2；0.5
　　降溫速度：可設置降到到指定的溫度，從而在此溫度的恒溫。
　?、呔€性升溫速率偏差：±10%
　　四、系統(tǒng)組成
　　電腦型（XPH-300V）：1.顯微鏡　2.適配鏡　3.攝像器　4.A/D（圖像采集）5.XPH熱臺
　　數碼型（XPH-300D）：1.顯微鏡　2.適配鏡　3.數碼相機　4.XPH熱臺
　　五、總放大參考倍數　XPH-300V型：50--3400倍　XPR-300D型：50--2000倍六、選購件1.目鏡：16X（Φ11mm）2.物鏡：20X　50X　80X　100X
　　3.移動尺（30X25mm）4.偏光顯微鏡分析軟件。