APS100是本公司自發(fā)研制的常壓等離子自動清洗系統(tǒng)。它為客戶提供各類型的托盤式樣品清洗方案。APS100的清洗速度100mm／s，清洗區(qū)域為400×400mm2。用戶可根據(jù)生產(chǎn)需要，設(shè)定不同的清洗方式，從而多功能及快速的生產(chǎn)效果。
APS100主要技術(shù)指標(biāo)
清洗速度：100mm／s
清洗路線：三維的（x-，y-，z-），可直行或環(huán)行的路線
清洗距離：12mm
清洗范圍： 400mm（L）×400mm（W）
樣品面積：500mm×500mm
使用氣體：壓縮空氣（CDA）或氮／氧混合物
氣壓要求：5–8bar，1500L／hr
整機尺寸：950mm（W）×789mm（D）×1450mm（H）
電源要求：210-230V，50-60Hz，15A
APS100主要技術(shù)指標(biāo)
清洗速度：100mm／s
清洗路線：三維的（x-，y-，z-），可直行或環(huán)行的路線
清洗距離：12mm
清洗范圍： 400mm（L）×400mm（W）
樣品面積：500mm×500mm
使用氣體：壓縮空氣（CDA）或氮／氧混合物
氣壓要求：5–8bar，1500L／hr
整機尺寸：950mm（W）×789mm（D）×1450mm（H）
電源要求：210-230V，50-60Hz，15A
