小型激光直寫(xiě)機(jī)
　　
　　激光直寫(xiě)機(jī)用于CAD到基板的直接套寫(xiě)。既可作為常規(guī)的套寫(xiě)工具也可用于特定規(guī)格的定制系統(tǒng)。LW405B是LW405A的升級(jí)版，它包括Windows7用戶(hù)界面，全數(shù)字?jǐn)z像機(jī)、XY激光干涉機(jī)以及數(shù)項(xiàng)附加軟件功能。
　　改系統(tǒng)由三部分組成：
　　直寫(xiě)單元
　　控制單元
　　LaserDraw 軟件包
　　
　　每個(gè)部分的詳細(xì)技術(shù)介紹參見(jiàn)以下介紹
　　應(yīng)用包括直接基板套寫(xiě)及微電子掩膜制造、微波電路、太赫茲技術(shù)、微機(jī)械、微流體、石墨和納米管技術(shù)等。
　　
　　所述規(guī)格皆可定制
　　LW405-A 激光直寫(xiě)型號(hào) 標(biāo)準(zhǔn)型 緊湊型 臺(tái)式 選配
　　工作區(qū)域（mm）
　　激光直寫(xiě)機(jī)的工作區(qū)域可匹配各類(lèi)掩膜或基板尺寸。包含一個(gè)真空倉(cāng)（倉(cāng)體表面通常根據(jù)客戶(hù)要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作區(qū)域。 150x150
　?。?"x6"） 150x150
　　（6"x6"） 50x50
　?。?"x2"） up to 350x350
　　定位（µm）
　　這一參數(shù)代表的是在整個(gè)工作區(qū)域的定位誤差以及由于不同的掩膜或工藝水平所可能導(dǎo)致的特征重疊。但這與所的分辨率無(wú)關(guān)，如小線(xiàn)寬。 &plun;0.1 &plun;1 &plun;1

　　XY 激光干涉儀
　　10 nm分辨率 Yes No No
　　小線(xiàn)寬（µm）
　　小線(xiàn)寬操作者可以在0.8、2、4或8µm間進(jìn)行選擇。對(duì)于高密度互聯(lián)或微波電路的快速直寫(xiě)，可選擇一個(gè)低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
　　曝光波長(zhǎng)（nm）
　　直寫(xiě)光束的標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)為405nm（來(lái)源于GaN固體激光）。對(duì)于生物化學(xué)應(yīng)用可選配325nm波長(zhǎng)（來(lái)源于He-CD 氣體激光）。05 325，375，405＆375
　　護(hù)層曝光
　　包含標(biāo)準(zhǔn)的含護(hù)層的膜（鉻或氧化鐵）。除了掩膜直寫(xiě)，本系統(tǒng)也適用于在終基板上進(jìn)行無(wú)膜直接套寫(xiě)（硅、GaAs、InP、微波\低溫\生物學(xué)基板等）。