AJA公司的磁控濺射靶是為了滿足真空薄膜研究的需要而設(shè)計(jì)的。它的多功能性設(shè)計(jì)在世界上是處于的，如模塊化磁場(chǎng)排布、原位傾斜裝置、在靶上集成的氣環(huán)、圓錐形的靶罩以及其他真空的設(shè)計(jì)等。真空磁控濺射靶是目前市場(chǎng)上的研究用靶。
其主要功能及特點(diǎn)：
可以做直流和射頻濺射。
可以濺射磁性及非磁性材料。
模塊化磁場(chǎng)排布。
冷卻水和磁鐵不直接接觸。
真空設(shè)計(jì)。
不需要拆卸可直接烤到200攝氏度。
工作壓力范圍寬（0.5-1Torr）。
有較高的濺射速率和沉積均勻性。
可選部件：
?。?45°傾斜裝置。
原位傾斜裝置。
集成在靶上的氣環(huán)。
圓錐形靶罩，用于非軸向?yàn)R射。
真空Z(yǔ)軸手動(dòng)移動(dòng)和氣動(dòng)擋板。
復(fù)合法蘭。
其它要求。
其主要功能及特點(diǎn)：
可以做直流和射頻濺射。
可以濺射磁性及非磁性材料。
模塊化磁場(chǎng)排布。
冷卻水和磁鐵不直接接觸。
真空設(shè)計(jì)。
不需要拆卸可直接烤到200攝氏度。
工作壓力范圍寬（0.5-1Torr）。
有較高的濺射速率和沉積均勻性。
可選部件：
?。?45°傾斜裝置。
原位傾斜裝置。
集成在靶上的氣環(huán)。
圓錐形靶罩，用于非軸向?yàn)R射。
真空Z(yǔ)軸手動(dòng)移動(dòng)和氣動(dòng)擋板。
復(fù)合法蘭。
其它要求。
