顯影機(jī)
　　
　　顯影機(jī)是CKF系列產(chǎn)品基礎(chǔ)品種之一，該機(jī)采用的單片微型機(jī)程序自動(dòng)控制，顯影質(zhì)量好工藝條件穩(wěn)定適應(yīng)宜科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其它半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。

　　本機(jī)顯影工藝采用了的噴霧方式，可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù)，程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整，其程序?yàn)槲?、顯影、漂洗、干燥、復(fù)位。

　　采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，是對(duì)較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。

　　本設(shè)備除能實(shí)現(xiàn)顯影工藝外亦可進(jìn)行人工涂膠，工藝指標(biāo)與本系列產(chǎn)品CKF-411型涂膠機(jī)相同

　　主要技術(shù)指標(biāo)
　　顯影工位：　一個(gè)工位
　　程序時(shí)間：　顯影1—99秒　漂洗1—99秒　干燥1—99秒
　　旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù)：　500—8000轉(zhuǎn)／分（連續(xù)可調(diào)）
　　硅片直徑：　Φ30—Φ75mm
　　凈化效果：　100級(jí)（美國聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)）
　　操作區(qū)風(fēng)速：　0.3—0.5米／秒
　　氣流狀態(tài)：　垂直層流
　　外形尺寸：　650Χ750Χ1620mm