本設備為科研工作者在新材料的開發(fā)和研制中提供了在高真空、高溫和強磁場復合條件下處理實驗樣品的環(huán)境。其性在于將真空、加熱和磁場這三個模塊系統(tǒng)地整合到一個統(tǒng)一的整體。并在加熱升/降溫過程和磁場加載卸載過程中采用PID程序控制，實現(xiàn)加載實驗過程的自動化和程序化。該設備操作簡單，維護方便，溫度和磁場的控制高，穩(wěn)定性好。
　　
　　2010年底我公司沙特阿卜杜拉科技大學實驗設備的采購訂單
　　真空系統(tǒng)采用旋片式機械泵與渦輪分子泵串聯(lián)組合結(jié)構(gòu)，系統(tǒng)在工作溫度下可實現(xiàn)較高的真空度。系統(tǒng)配備了微調(diào)進氣閥，方便用戶在實驗過程中向真空腔內(nèi)充氬氣、氮氣等氣體，降溫速度。
　　
　　加熱系統(tǒng)采用40段可編程PID控制器。恒溫控制為±1℃。
　　磁場產(chǎn)生系統(tǒng)同樣采用40段可編程PID控制器。恒磁控制為±0.1mT.
　　冷卻水系統(tǒng)采用監(jiān)控結(jié)構(gòu)，利用溫度傳感器分別監(jiān)測加熱爐冷卻水和真空泵冷卻水水溫，通過微調(diào)流量閥，分別調(diào)節(jié)加熱爐磁場及分子泵的冷卻水流量，控制出口水溫。
　　本公司可根據(jù)客戶需要設計制造更高溫度、更強磁場、更高真空度和更大的實驗樣品空間的“高真空強磁場熱處理爐”?！?

其他說明

產(chǎn)品名稱	高真空強磁場熱處理爐
產(chǎn)品型號	VM-500
輸入電壓	三相 380V
總功耗	~ 3kw
冷卻水入水溫度	≤ 25 ℃
冷卻水出水溫度	≤ 40℃
冷卻水流量	≤ 3 升 / 分鐘
樣品大小	5* Ø 2 0 mm
設備尺寸	720mm( 長 )* 760mm( 寬 )* 760mm( 高 )
設備凈重	246kg
真空系統(tǒng)參數(shù)
前級真空泵	旋片式機械泵
真空泵	渦輪式分子泵
真空計	兩級復合真空計
冷態(tài)真空度	~ 1E-5Pa
800 ℃ 真空度	~ 1E-4Pa
加熱系統(tǒng)參數(shù)
溫度范圍	室溫~ 800 ℃
控制方式	1* 40/2* 20/4* 10 可編程 PID 控制
測溫	鉑銠 / 鎳鉻鎳硅 熱電偶
控溫	&plun; 1 ℃
升溫速度	≤ 10℃/ 分鐘
磁場系統(tǒng)參數(shù)
磁感應強度范圍	0 ~ 50mT
磁場類型	磁線圈
磁場方向	水平
磁場控制方式	1* 40/2* 20/4* 10 可編程 PID 控制
磁場控制	&plun; 0.1mT
磁場加載速度	≤ 50mT/ 分鐘