系統(tǒng)介紹:
SW-6500D型多晶硅過程氣體分析系統(tǒng)可連續(xù)監(jiān)測工業(yè)硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護(hù)氣氮?dú)獾难鹾亢臀⑺?,從而后提煉純硅的品質(zhì)。
系統(tǒng)特點(diǎn):
取樣探頭為可插拔式探頭,方便更換濾芯
過濾器可過粉塵和硅粉,過濾為0.3μm
大屏幕現(xiàn)場就地顯示
采用陶瓷阻式分析儀
技術(shù)參數(shù):
型號:SW-6500D
信號輸出:4-20 mA輸出
響應(yīng)時間:T90<30s
工作溫度:-20º~+60º
電源:220 VAC
護(hù)等級:IP65
系統(tǒng)部件:316L不銹鋼
爆標(biāo)準(zhǔn):合EEx ia IIC T4
微量水分析儀:
測量范圍:+20~-100℃
:+20~-60℃范圍內(nèi)為&plun;1º,-60~-100℃范圍內(nèi)為&plun;2º
工作壓力:真空~40 MPa
爆標(biāo)準(zhǔn):非現(xiàn)場顯示型合EEx ia IIC T4
氧含量分析儀:
測量范圍:0-25%(量程任選)
:<1%FS






